固体基质中单分子体系发射光子的统计特性
| 目录 | 第1-9页 |
| 摘要 | 第9-12页 |
| Abstract | 第12-16页 |
| 符号说明 | 第16-17页 |
| 第一章 引言 | 第17-24页 |
| §1.1 历史背景 | 第17-18页 |
| §1.2 单分子技术介绍及荧光光谱 | 第18-20页 |
| ·单分子技术介绍 | 第18-19页 |
| ·荧光光谱 | 第19-20页 |
| §1.3 单分子研究的理论方法 | 第20-22页 |
| §1.4 本文结构 | 第22-24页 |
| 第二章 理论介绍 | 第24-32页 |
| §2.1 密度矩阵理论 | 第24-28页 |
| ·二能级体系模型 | 第24-25页 |
| ·密度矩阵理论 | 第25-27页 |
| ·能级体系密度矩阵的演化 | 第27-28页 |
| §2.2 产生函数方法 | 第28-31页 |
| §2.3 小结 | 第31-32页 |
| 第三章 外场下二能级体系发射光子的统计特性 | 第32-68页 |
| §3.1 理论介绍 | 第32-41页 |
| ·密度矩阵演化 | 第32-34页 |
| ·产生函数方法的应用 | 第34-38页 |
| ·单分子荧光动力学过程 | 第38-39页 |
| ·光子统计参量 | 第39-41页 |
| §3.2 激光和射频场均为连续场 | 第41-58页 |
| ·无谱扩散情况 | 第41-53页 |
| ·存在谱扩散情况 | 第53-58页 |
| §3.3 存在脉冲外场的情况 | 第58-65页 |
| ·激光场为连续场,射频场为脉冲场 | 第58-60页 |
| ·激光场为脉冲场,射频场为连续场 | 第60-62页 |
| ·激光和射频场均为脉冲场 | 第62-65页 |
| §3.4 小结 | 第65-68页 |
| 第四章 荧光闪烁过程统计特性的研究 | 第68-88页 |
| §4.1 荧光闪烁 | 第68-69页 |
| §4.2 产生函数方法处理荧光闪烁过程光子发射 | 第69-87页 |
| ·闪烁过程中的光子统计 | 第70-78页 |
| ·闪烁过程中的跳跃统计 | 第78-87页 |
| §4.3 小结 | 第87-88页 |
| 第五章 总结和展望 | 第88-91页 |
| §5.1 总结 | 第88-90页 |
| §5.2 展望 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-97页 |
| 已发表和已投递论文目录 | 第97-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
| 发表论文 | 第99-119页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第119页 |
