| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 综述部分 | 第10-41页 |
| 第一章:拉曼光谱以及SERS理论的简介 | 第11-15页 |
| ·拉曼光谱的简介 | 第11-12页 |
| ·拉曼效应以及拉曼光谱分析法的特点 | 第12-15页 |
| 第二章:表面增强拉曼散射(SERS) | 第15-27页 |
| ·表面增强拉曼散射(SERS)理论 | 第15-22页 |
| ·纳米粗糙度SERS基底研究概况 | 第22-27页 |
| 第三章:磁控溅射技术介绍 | 第27-31页 |
| ·磁控溅射技术的发现与发展 | 第27-28页 |
| ·磁控溅射镀膜原理与特点 | 第28-29页 |
| ·磁控溅射技术制备纳米薄膜材料 | 第29-31页 |
| 第四章:密度泛函理论简介 | 第31-35页 |
| ·量子化学的发展 | 第31-32页 |
| ·密度泛函(DFT)方法 | 第32-33页 |
| ·密度泛函理论在拉曼光谱学中的应用 | 第33-35页 |
| 参考文献 | 第35-41页 |
| 研究部分 | 第41-75页 |
| 第一章:磁控溅射条件对制备纳米尺度SERS基底的影响 | 第43-53页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·实验部分 | 第44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-50页 |
| ·小结 | 第50-53页 |
| 第二章:AG、CU等贵金属磁控溅射基底的形貌与SERS关系的研究 | 第53-59页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·实验部分 | 第54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-57页 |
| ·小结 | 第57-59页 |
| 第三章:过渡金属FE、TI和半导体SI等材料制备基底的SERS获得 | 第59-66页 |
| ·引言 | 第59-60页 |
| ·实验 | 第60页 |
| ·结果与讨论 | 第60-64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 第四章:磁控溅射基底表面分子吸附行为的理论计算研究 | 第66-72页 |
| ·引言 | 第66-67页 |
| ·实验部分 | 第67页 |
| ·结果与讨论 | 第67-71页 |
| ·小结 | 第71-72页 |
| 第五章:结论与展望 | 第72-75页 |
| ·主要结论: | 第72-74页 |
| ·未来工作的展望: | 第74-75页 |
| 硕士期间论文发表情况 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
