| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 引言 | 第10-27页 |
| ·前言 | 第10-11页 |
| ·纳米材料的基本物理效应 | 第11-13页 |
| ·表面效应 | 第11页 |
| ·小尺寸效应 | 第11页 |
| ·量子尺寸效应 | 第11-12页 |
| ·量子隧道效应 | 第12页 |
| ·介电限域效应 | 第12-13页 |
| ·光催化氧化机理 | 第13-15页 |
| ·半导体激发带跃迁和光诱发电子在催化剂表面上的转移过程 | 第13-14页 |
| ·量子尺寸效应 | 第14页 |
| ·电子-空穴的捕获 | 第14-15页 |
| ·纳米光催化剂的杀菌机理 | 第15-18页 |
| ·氧化钛抗菌剂及抗菌原理 | 第15-16页 |
| ·纳米抗菌剂及其抗菌机理 | 第16-17页 |
| ·纳米光催化剂的杀菌功能和特点 | 第17-18页 |
| ·光催化剂的制备方法 | 第18-21页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
| ·气相合成法 | 第19-20页 |
| ·液相沉积法 | 第20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20页 |
| ·阴极氧化沉积法 | 第20页 |
| ·高能球磨法 | 第20-21页 |
| ·影响光催化的各种因素 | 第21-22页 |
| ·影响光催化效率的因素 | 第21页 |
| ·在催化氧化进行中产生的影响因素 | 第21-22页 |
| ·光催化活性的提高途径 | 第22-24页 |
| ·光电催化 | 第22-23页 |
| ·半导体表面贵金属沉积 | 第23页 |
| ·半导体的金属离子掺杂 | 第23页 |
| ·复合半导体 | 第23-24页 |
| ·半导体光敏化作用 | 第24页 |
| ·在环境污染治理中的应用 | 第24-27页 |
| ·光催化技术在大气污染治理中的应用 | 第24页 |
| ·光催化技术在水处理中的应用 | 第24-27页 |
| 第2章 实验部分 | 第27-34页 |
| ·试剂和仪器 | 第27-31页 |
| ·实验主要的试剂 | 第27-28页 |
| ·实验主要的仪器 | 第28页 |
| ·实验所用的菌种 | 第28-29页 |
| ·光催化反应装置 | 第29-31页 |
| ·实验部分 | 第31-33页 |
| ·制备纳米TiO_2工艺流程 | 第31-32页 |
| ·光催化性的测试 | 第32-33页 |
| ·抗菌性能的测试 | 第33页 |
| ·光催化材料性能表征 | 第33-34页 |
| 第3章 实验结果与讨论 | 第34-50页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验原理 | 第34-35页 |
| ·实验体系的选择 | 第35-38页 |
| ·钛醇盐 | 第35-36页 |
| ·溶剂 | 第36页 |
| ·其他试剂的选择 | 第36页 |
| ·加水量 | 第36-37页 |
| ·实验体系的确定 | 第37-38页 |
| ·Fe~(3+)／TiO_2的光催化活性 | 第38-44页 |
| ·正交实验 | 第38-41页 |
| ·不同掺铁量对Fe~(3+)／TiO_2光催化活性的影响 | 第41-42页 |
| ·煅烧时间对Fe~(3+)／TiO_2光催化活性的影响 | 第42-43页 |
| ·不同镀膜次数对光催化活性的影响 | 第43页 |
| ·煅烧温度对Fe~(3+)／TiO_2光催化活性的影响 | 第43-44页 |
| ·Fe~(3+)／TiO_2抗菌性能的测试 | 第44-48页 |
| ·在日光灯(90w)照射24h条件下不同掺铁量对三种细菌的杀灭率的影响 | 第45-46页 |
| ·不同时间对三种细菌的杀灭率的影响 | 第46-47页 |
| ·不同光源对三种细菌的杀灭率的影响 | 第47-48页 |
| ·小结 | 第48-50页 |
| 第4章 Fe~(3+)／TiO_2的分析测试与讨论 | 第50-63页 |
| ·XRD分析 | 第50-55页 |
| ·不同掺铁量的XRD分析 | 第50-53页 |
| ·不同煅烧温度的XRD分析 | 第53-55页 |
| ·不同掺铁量和不同煅烧温度与平均粒径的关系 | 第55页 |
| ·差热扫描量热仪(TG-DSC)分析 | 第55-57页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第57-58页 |
| ·比表面积的分析 | 第58-59页 |
| ·紫外—可见光分析 | 第59-61页 |
| ·小结 | 第61-63页 |
| 第5章 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 附录：硕士研究生期间发表论文 | 第72页 |
