| 第一章 引言 | 第1-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-32页 |
| 2．1 节能镀膜玻璃的发展现状 | 第11-13页 |
| 2．1．1 建筑玻璃的节能问题和节能玻璃 | 第11-12页 |
| 2．1．2 建筑镀膜玻璃的节能特性 | 第12-13页 |
| 2．2 性能优异的节能型镀膜玻璃—低辐射玻璃 | 第13-20页 |
| 2．2．1 低辐射玻璃的节能原理 | 第14-15页 |
| 2．2．2 低辐射玻璃的种类 | 第15-20页 |
| 2．2．2．1 电介质/金属/电介质多层复合低辐射玻璃 | 第16-18页 |
| 2．2．2．2 半导体单层膜低辐射玻璃 | 第18-20页 |
| 2．3 玻璃镀膜的制备技术 | 第20-30页 |
| 2．3．1 真空蒸发镀膜法 | 第20-21页 |
| 2．3．2 溅射镀膜法 | 第21-22页 |
| 2．3．3 电浮法镀膜 | 第22页 |
| 2．3．4 化学气相沉积法（CVD） | 第22页 |
| 2．3．5 溶胶—凝胶法镀膜 | 第22-23页 |
| 2．3．6 喷雾热解法 | 第23-30页 |
| 2．4 选题角度的确定 | 第30-32页 |
| 第三章 喷雾热解法制备Sb掺杂SnO_2薄膜 | 第32-40页 |
| 3．1 涂膜液的选用 | 第32页 |
| 3．2 实验设备与器材 | 第32-34页 |
| 3．2．1 设备说明 | 第32-33页 |
| 3．2．2 成膜设备的设计与组成 | 第33-34页 |
| 3．3 薄膜制备过程 | 第34-36页 |
| 3．3．1 主要原料 | 第34页 |
| 3．3．2 掺Sb锡溶液的配制 | 第34-35页 |
| 3．3．3 玻璃基板的清洗 | 第35页 |
| 3．3．4 喷雾热解成膜 | 第35-36页 |
| 3．3．5 实验流程图 | 第36页 |
| 3．4 测试方法 | 第36-40页 |
| 3．4．1 膜成分的测试 | 第36-37页 |
| 3．4．2 膜结构的测试 | 第37-38页 |
| 3．4．3 薄膜的厚度的测定 | 第38页 |
| 3．4．4 薄膜的方块电阻、霍尔迁移率和载流子浓度的测定 | 第38-39页 |
| 3．4．5 薄膜光透射、反射率的测定 | 第39-40页 |
| 第四章 SnO_2:Sb薄膜的形貌、结构和成膜机理分析 | 第40-57页 |
| 4．1 不同条件下制备的薄膜 | 第40-41页 |
| 4．2 喷雾条件对基板温度的影响分析 | 第41-43页 |
| 4．3 薄膜厚度与与成膜条件的关系 | 第43页 |
| 4．4 SnO_2:Sb薄膜的组成和结构分析 | 第43-53页 |
| 4．4．1 扫描电镜（SEM）照片分析 | 第43-46页 |
| 4．4．2 AFM照片分析 | 第46-48页 |
| 4．4．3 透射电镜照片分析 | 第48-50页 |
| 4．4．4 XRD分析结果 | 第50-51页 |
| 4．4．5 XPS分析结果 | 第51-53页 |
| 4．5 SnO_2:Sb薄膜形成的机理探讨 | 第53-55页 |
| 4．6 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 SnO_2:Sb薄膜的光电性能分析 | 第57-70页 |
| 5．1 薄膜的光学性能测试 | 第57-60页 |
| 5．1．1 紫外-可见透射图谱分析 | 第57-58页 |
| 5．1．2 近红外反射光谱分析 | 第58-59页 |
| 5．1．3 光学能隙 | 第59-60页 |
| 5．2 SnO_2:Sb薄膜的电学性能测试 | 第60-64页 |
| 5．2．1 方块电阻测量 | 第60-63页 |
| 5．2．2 霍尔迁移率、霍尔系数和载流子浓度 | 第63-64页 |
| 5．3 SnO_2:Sb薄膜玻璃的化学稳定性测试与分析 | 第64-65页 |
| 5．4 SnO_2:Sb薄膜光电性能的分析与讨论 | 第65-69页 |
| 5．5 本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
