| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-14页 |
| 引言 | 第14-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-32页 |
| ·铁电体及其基本性质 | 第15-18页 |
| ·铁电材料的分类 | 第18-20页 |
| ·铁电薄膜材料的发展概况及应用 | 第20-26页 |
| ·铁电薄膜材料的发展简介 | 第20-21页 |
| ·铁电薄膜材料的应用 | 第21-22页 |
| ·铁电薄膜材料在存储器中的应用 | 第22-26页 |
| ·Bi_4Ti_3O_(12)(BTO)基铁电薄膜材料的研究进展 | 第26-30页 |
| ·制备方法对BTO基铁电薄膜的影响 | 第27-28页 |
| ·离子掺杂对BTO薄膜的影响 | 第28-29页 |
| ·衬底或晶种层对BTO基薄膜的影响 | 第29-30页 |
| ·本文的研究内容 | 第30-32页 |
| 第二章 薄膜的制备与表征方法 | 第32-43页 |
| ·铁电薄膜的制备技术 | 第32-34页 |
| ·磁控溅射法 | 第32-33页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第33页 |
| ·金属有机化学气相沉积法 | 第33页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第33-34页 |
| ·铁电薄膜的Sol-gel法制备 | 第34-40页 |
| ·主要仪器设备 | 第35页 |
| ·主要工艺流程与方法 | 第35-40页 |
| ·铁电薄膜的测试表征方法 | 第40-43页 |
| 第三章 La和Nd掺杂的Bi_4Ti_3O_(12)薄膜的性能及其机理研究 | 第43-50页 |
| ·Sol-gel法制备BLT和BNT薄膜 | 第43-44页 |
| ·结果与分析 | 第44-49页 |
| ·薄膜的晶体结构 | 第44-46页 |
| ·表面形貌分析 | 第46页 |
| ·铁电性能分析 | 第46-47页 |
| ·抗疲劳性能分析 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 高价稀土元素Tb掺杂的BTO薄膜的研究 | 第50-63页 |
| ·高价Tb~(4+)离子掺杂的Bi_(3.6)Tb_(0.4)Ti_3O_(12)薄膜 | 第50-56页 |
| ·样品制备与测试 | 第50-51页 |
| ·结果与分析 | 第51-56页 |
| ·不同Tb掺杂含量对BTO薄膜结构和性能的影响 | 第56-62页 |
| ·样品制备与测试 | 第56页 |
| ·结果与分析 | 第56-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 A位与B位共掺杂的Bi_4Ti_3O_(12)薄膜的研究 | 第63-71页 |
| ·Sol-gel法制备Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_(3-x)Mn_xO_(12)薄膜 | 第63-64页 |
| ·结果与分析 | 第64-70页 |
| ·XRD分析 | 第64-65页 |
| ·表面形貌分析 | 第65-66页 |
| ·漏电流性能分析 | 第66页 |
| ·介电性能分析 | 第66-67页 |
| ·铁电性能分析 | 第67-69页 |
| ·抗疲劳性能分析 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第六章 晶种层对BLT薄膜的结晶取向和铁电性能的影响 | 第71-79页 |
| ·Sol-gel法制备不同晶种层的BLT薄膜 | 第71-72页 |
| ·结果与分析 | 第72-77页 |
| ·XRD分析 | 第72-73页 |
| ·表面形貌分析 | 第73-74页 |
| ·漏电流性能分析 | 第74-75页 |
| ·铁电性能分析 | 第75-76页 |
| ·介电性能分析 | 第76页 |
| ·抗疲劳性能分析 | 第76-77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 第七章 BiFeO_3/Bi_(3.15)Nd_(0.85)Ti_3O_(12)双层薄膜的结构和性能的研究 | 第79-86页 |
| ·Sol-gel法制备BFO/BNT双层薄膜 | 第79-80页 |
| ·结果与分析 | 第80-85页 |
| ·XRD分析 | 第80-81页 |
| ·表面形貌分析 | 第81页 |
| ·漏电流密度分析 | 第81-82页 |
| ·铁电性能分析 | 第82-83页 |
| ·介电特性分析 | 第83-84页 |
| ·疲劳特性分析 | 第84-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第八章 总结 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-106页 |
| 博士期间已发表的论文 | 第106-108页 |
| 致谢 | 第108页 |
