喷射成形设备控制系统研究与应用
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·喷射成形技术原理 | 第8页 |
| ·喷射成形技术的研究与发展概况 | 第8-10页 |
| ·在国外的起源与发展 | 第8-9页 |
| ·国内的研究与发展 | 第9-10页 |
| ·国内外产业化发展水平比较 | 第10页 |
| ·喷射成形技术的优缺点 | 第10-11页 |
| ·本课题的背景和论文内容 | 第11-12页 |
| 第二章 设备组成与工艺过程 | 第12-18页 |
| ·喷射成形设备整体组成 | 第12-15页 |
| ·熔炼室 | 第12-13页 |
| ·雾化沉积室 | 第13-14页 |
| ·加热电源系统 | 第14页 |
| ·真空系统 | 第14页 |
| ·雾化气体系统 | 第14页 |
| ·除尘系统 | 第14页 |
| ·冷却水循环系统 | 第14页 |
| ·压缩空气系统 | 第14页 |
| ·设备传动系统 | 第14-15页 |
| ·喷射成形试验设备工艺流程 | 第15-16页 |
| ·喷射成形试验设备总体控制要求 | 第16-18页 |
| 第三章 控制系统软硬件组成 | 第18-30页 |
| ·控制系统整体构架 | 第18页 |
| ·下位PLC系统 | 第18-27页 |
| ·PLC的定义 | 第18-19页 |
| ·PLC的工作原理 | 第19-21页 |
| ·PLC编程环境与程序组织结构 | 第21-23页 |
| ·PLC系统硬件选型与配置 | 第23-24页 |
| ·PLC模块介绍 | 第24-27页 |
| ·上位组态软件 WinCC | 第27-30页 |
| ·组态软件与WinCC简介 | 第27-28页 |
| ·WinCC系统构成 | 第28-30页 |
| 第四章 控制系统软件开发 | 第30-40页 |
| ·上位监控系统 WinCC 软件开发 | 第30-35页 |
| ·监控界面设计 | 第30-32页 |
| ·WinCC脚本技术的应用 | 第32-35页 |
| ·PLC软件设计 | 第35-40页 |
| ·程序结构 | 第35-36页 |
| ·PLC模拟量处理 | 第36-40页 |
| 第五章 关键技术研究与实现 | 第40-62页 |
| ·温度控制方法概述 | 第40-41页 |
| ·基于PID控制的保温过程 | 第41-50页 |
| ·PID原理 | 第41-44页 |
| ·PID算法仿真 | 第44-45页 |
| ·PID方法在PLC上的实现 | 第45-50页 |
| ·基于模糊控制的升温过程 | 第50-58页 |
| ·模糊控制原理 | 第50-52页 |
| ·模糊控制器的建立 | 第52-54页 |
| ·模糊控制算法在控制系统中的应用与实现 | 第54-58页 |
| ·喷射高度控制系统设计 | 第58-62页 |
| 第六章 喷射成形相关工艺研究 | 第62-70页 |
| ·喷射模型的建立 | 第62-63页 |
| ·仿真算法 | 第63-64页 |
| ·直喷仿真分析 | 第64-67页 |
| ·其它喷射工艺 | 第67-70页 |
| 第七章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 在读期间的研究成果 | 第76-77页 |
