| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 引言 | 第11-17页 |
| 1.1 论文工作的背景 | 第11-12页 |
| 1.2 论文题目的提出及意义 | 第12-13页 |
| 1.3 论文工作的主要内容和创新点 | 第13-17页 |
| 第2章 强流重离子加速器和束流注入方法 | 第17-43页 |
| 2.1 强流重离子加速器现状 | 第17-20页 |
| 2.2 同步加速器束流动力学 | 第20-33页 |
| 2.2.1 基本概念 | 第20-24页 |
| 2.2.2 同步加速器中粒子横向运动方程 | 第24-26页 |
| 2.2.3 传输矩阵 | 第26-27页 |
| 2.2.4 多次多圈注入 | 第27-28页 |
| 2.2.5 Twiss参数 | 第28-30页 |
| 2.2.6 束流包络 | 第30-31页 |
| 2.2.7 闭轨畸变 | 第31-32页 |
| 2.2.8 共振 | 第32-33页 |
| 2.3 同步加速器的束流注入及累积方法 | 第33-43页 |
| 2.3.1 单圈注入 | 第34-35页 |
| 2.3.2 多圈注入 | 第35-37页 |
| 2.3.4 H-电荷转换法注入 | 第37-38页 |
| 2.3.5 注入输运线的光学参数匹配 | 第38-43页 |
| 第3章 HIAF/BRing同步加速器注入系统设计 | 第43-65页 |
| 3.1 HIAF概述 | 第43-45页 |
| 3.2 HIAF/BRing的 Lattice结构 | 第45-47页 |
| 3.3 HIAF/BRing注入系统设计 | 第47-65页 |
| 3.3.1 注入方法的选择 | 第48-50页 |
| 3.3.2 双平面涂抹多圈注入方案 | 第50-56页 |
| 3.3.3 注入所用元件 | 第56-61页 |
| 3.3.4 注入输运线的匹配 | 第61-65页 |
| 第4章 双平面涂抹多圈注入过程跟踪模拟 | 第65-77页 |
| 4.1 ORBIT程序介绍 | 第65-69页 |
| 4.1.1 ORBIT程序简介 | 第65-67页 |
| 4.1.2 空间电荷效应节点 | 第67-69页 |
| 4.2 ORBIT程序修改 | 第69-70页 |
| 4.3 双平面涂抹多圈注入模拟结果 | 第70-77页 |
| 第5章 双平面涂抹多圈注入动力学优化 | 第77-97页 |
| 5.1 注入参数的选择 | 第77-81页 |
| 5.1.1 注入相关参数 | 第77页 |
| 5.1.2 不同注入参数的敏感性分析 | 第77-81页 |
| 5.2 PSO粒子群优化算法 | 第81-85页 |
| 5.2.1 算法简介 | 第81-82页 |
| 5.2.2 算法原理 | 第82-85页 |
| 5.2.3 PSO算法的应用 | 第85页 |
| 5.3 双平面涂抹多圈注入优化模拟程序TPIS的开发和验证 | 第85-90页 |
| 5.3.1 双平面涂抹多圈注入模型和TPIS程序结构 | 第86-89页 |
| 5.3.2 TPIS程序与ORBIT程序模拟结果对比 | 第89-90页 |
| 5.4 注入参数优化结果 | 第90-97页 |
| 第6章 双平面涂抹多圈注入过程中空间电荷效应研究 | 第97-119页 |
| 6.1 空间电荷效应基本理论 | 第97-106页 |
| 6.1.1 横向空间电荷力 | 第97-101页 |
| 6.1.2 相干工作点频移 | 第101-104页 |
| 6.1.3 空间电荷效应对束流品质的影响 | 第104-106页 |
| 6.2 研究空间电荷效应的方法 | 第106-109页 |
| 6.2.1 包络方程 | 第106页 |
| 6.2.2 Vlasov-Poisson方程 | 第106-108页 |
| 6.2.3 程序模拟 | 第108-109页 |
| 6.3 双平面涂抹多圈注入过程中空间电荷效应的影响 | 第109-115页 |
| 6.4 考虑空间电荷效应影响的注入优化 | 第115-119页 |
| 第7章 结论 | 第119-121页 |
| 7.1 结论 | 第119-120页 |
| 7.2 进一步工作的方向 | 第120-121页 |
| 参考文献 | 第121-125页 |
| 致谢 | 第125-127页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第127-128页 |
| 作者简历 | 第127页 |
| 已发表(或正式接受)的学术论文 | 第127-128页 |
| 参与的研究项目 | 第128页 |
