| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 非晶硅的研究背景 | 第9-14页 |
| 1.1.1 非晶硅的化学键结构 | 第10-12页 |
| 1.1.2 非晶硅的电子性质 | 第12-13页 |
| 1.1.3 非晶硅薄膜的常用制备方法 | 第13-14页 |
| 1.2 氢化非晶硅的光学应用 | 第14-15页 |
| 1.3 计算材料科学研究的意义 | 第15-16页 |
| 1.4 本论文的研究目的和内容 | 第16页 |
| 1.5 本章小结 | 第16-17页 |
| 第二章 第一性原理以及建模工具介绍 | 第17-27页 |
| 2.1 密度泛函理论——从波函数到电荷密度 | 第17-20页 |
| 2.1.1 Hohenberg-Kohn定理 | 第17-18页 |
| 2.1.2 Kohn-Sham方程 | 第18-20页 |
| 2.2 局域化的和空间扩展的函数 | 第20-24页 |
| 2.2.1 波函数方法(Wave-function-based Methods) | 第20页 |
| 2.2.2 Born-Oppenheimer近似（绝热近似） | 第20-21页 |
| 2.2.3 Hatree-Fock方法 | 第21-23页 |
| 2.2.4 Hatree-Fock方法之后 | 第23-24页 |
| 2.3 交换关联泛函 | 第24-25页 |
| 2.3.1 局域密度近似 | 第24-25页 |
| 2.3.2 广义梯度近似 | 第25页 |
| 2.4 模拟计算软件介绍 | 第25-26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 薄膜的制备和测试方法 | 第27-33页 |
| 3.1 薄膜的制备 | 第27-28页 |
| 3.2 薄膜的性能测试手段 | 第28-32页 |
| 3.2.1 傅里叶红外光谱仪 | 第28-30页 |
| 3.2.2 紫外可见光光谱式椭偏仪 | 第30-31页 |
| 3.2.3 X射线衍射仪 | 第31-32页 |
| 3.3 本章总结 | 第32-33页 |
| 第四章 液相冷却模型的建立 | 第33-38页 |
| 4.1 结构性质的重要参数 | 第33-35页 |
| 4.1.1 结构因子 | 第34页 |
| 4.1.2 径向分布函数 | 第34-35页 |
| 4.2 建模流程 | 第35-37页 |
| 4.3 本章小结 | 第37-38页 |
| 第五章 液相冷却模型中冷却速率研究 | 第38-47页 |
| 5.1 冷却速率对于模型结构的影响 | 第38-43页 |
| 5.1.1 冷却速率对于径向分布函数的影响 | 第39-40页 |
| 5.1.2 冷却速率对硅原子配位数的影响 | 第40-41页 |
| 5.1.3 冷却速率对键角分布函数的影响 | 第41-43页 |
| 5.2 冷却速率对于结构缺陷和能态密度的影响 | 第43-45页 |
| 5.3 本章小结 | 第45-47页 |
| 第六章 基于慢速冷却样本对模型性质的讨论 | 第47-68页 |
| 6.1 慢速冷却模型的结构性质 | 第49-54页 |
| 6.2 结构和电学缺陷 | 第54-57页 |
| 6.3 模型的傅里叶红外谱 | 第57-59页 |
| 6.4 模型的光学性质 | 第59-66页 |
| 6.4.1 吸收率 | 第59-61页 |
| 6.4.2 折射率 | 第61-64页 |
| 6.4.3 消光系数 | 第64-66页 |
| 6.5 本章总结 | 第66-68页 |
| 第七章 总结 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第75-76页 |