摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第14-28页 |
1.1 引言 | 第14页 |
1.2 AlN的应用 | 第14-17页 |
1.2.1 陶瓷基板的应用 | 第14-16页 |
1.2.2 AlN粉体进行填充改性的应用 | 第16页 |
1.2.3 光学和电子器件上的应用 | 第16-17页 |
1.2.4 其他应用 | 第17页 |
1.3 AlN粉体的制备方法 | 第17-22页 |
1.3.1 铝粉直接氮化法 | 第18页 |
1.3.2 氧化铝粉碳热还原法 | 第18-19页 |
1.3.3 化学气相沉积法 | 第19-20页 |
1.3.4 自蔓延高温合成法 | 第20页 |
1.3.5 原位自反应合成法 | 第20-21页 |
1.3.6 高能球磨法 | 第21页 |
1.3.7 湿化学法 | 第21-22页 |
1.4 国内外研究现状 | 第22-24页 |
1.5 湿化学法制备AlN粉体的影响因素 | 第24-26页 |
1.5.1 氮源的选择 | 第24页 |
1.5.2 含氮有机物和金属摩尔比R | 第24页 |
1.5.3 溶剂种类 | 第24-25页 |
1.5.4 搅拌速率,反应时间和反应温度 | 第25页 |
1.5.5 烘干方式 | 第25-26页 |
1.6 本论文主要研究意义及研究内容 | 第26-28页 |
1.6.1 研究意义 | 第26页 |
1.6.2 主要研究内容 | 第26-27页 |
1.6.3 主要创新点 | 第27-28页 |
第二章 实验过程与研究方法 | 第28-33页 |
2.1 引言 | 第28页 |
2.2 实验原料及仪器设备 | 第28-29页 |
2.2.1 实验原料 | 第28页 |
2.2.2 实验仪器和设备 | 第28-29页 |
2.3 AlN纳米粉体的制备工艺 | 第29页 |
2.4 AlN纳米粉体表征方法与原理 | 第29-33页 |
2.4.1 物相结构分析 | 第29-31页 |
2.4.2 显微结构表征 | 第31页 |
2.4.3 光学性能表征 | 第31-33页 |
第三章 以尿素为氮源制备AlN纳米粉体 | 第33-50页 |
3.1 制备AlN纳米粉体的工艺路线分析 | 第33-39页 |
3.1.1 煅烧方式 | 第33-34页 |
3.1.2 保温时间 | 第34-35页 |
3.1.3 氮气流速 | 第35-37页 |
3.1.4 反应温度 | 第37-38页 |
3.1.5 尿素/金属摩尔比R值 | 第38页 |
3.1.6 AlN纳米颗粒的形成机理 | 第38-39页 |
3.2 AlN纳米粉体的结构表征 | 第39-42页 |
3.3 AlN纳米粉体的形貌调控 | 第42-46页 |
3.4 AlN纳米粉体的光学性能表征 | 第46-49页 |
3.5 本章小结 | 第49-50页 |
第四章 以氰胺类碳氮化物为氮源制备AlN纳米粉体 | 第50-66页 |
4.1 AlN纳米粉体的结构表征 | 第50-53页 |
4.2 煅烧过程中的中间产物以及反应过程的研究 | 第53-55页 |
4.3 AlN纳米粉体的形貌表征 | 第55-56页 |
4.4 AlN纳米粉体的光学性能分析 | 第56-58页 |
4.5 以三聚氰胺为氮源制备纳米AlN粉体 | 第58-64页 |
4.5.1 AlN纳米粉体的结构表征 | 第58-60页 |
4.5.2 煅烧过程中的中间产物以及反应过程的研究 | 第60-61页 |
4.5.3 AlN纳米粉体的形貌表征 | 第61-63页 |
4.5.4 AlN纳米粉体的光学性能表征 | 第63-64页 |
4.6 本章小结 | 第64-66页 |
第五章 三种氮源制备AlN纳米粉体的对比研究 | 第66-70页 |
5.1 AlN纳米粉体的结构表征 | 第66-67页 |
5.2 AlN纳米粉体的形貌表征 | 第67页 |
5.3 AlN纳米粉体的光学表征 | 第67-68页 |
5.4 本章小结 | 第68-70页 |
第六章 结论与展望 | 第70-72页 |
6.1 结论 | 第70-71页 |
6.2 展望 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-76页 |
攻读硕士期间发表的论文 | 第76-78页 |
致谢 | 第78页 |