摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第一章 绪论 | 第8-26页 |
1.1 引言 | 第8页 |
1.2 三光子吸收的特点 | 第8-9页 |
1.3 三光子吸收的应用 | 第9-12页 |
1.3.1 光限幅和光稳幅效应 | 第10页 |
1.3.2 多光子泵浦上转换激光 | 第10-11页 |
1.3.3 三维数据存储 | 第11页 |
1.3.4 三光子聚合微加工 | 第11页 |
1.3.5 三光子激发荧光显微成像 | 第11-12页 |
1.3.6 深度光动力疗法 | 第12页 |
1.3.7 三光子吸收受激散射 | 第12页 |
1.4 三光子吸收材料分类 | 第12-20页 |
1.4.1 一维材料 | 第13-16页 |
1.4.2 多枝结构 | 第16-17页 |
1.4.3 有机聚合物 | 第17-18页 |
1.4.4 有机金属化合物 | 第18-19页 |
1.4.5 纳米金属化合物 | 第19页 |
1.4.6 纳米复合材料 | 第19页 |
1.4.7 半导体材料 | 第19-20页 |
参考文献 | 第20-26页 |
第二章 三光子吸收理论拟合与实验测量方法的研究 | 第26-42页 |
2.1 多光子吸收过程的两种描述 | 第26-35页 |
2.1.1 半经典描述 | 第26-28页 |
2.1.2 多光子吸收的量子力学描述 | 第28-35页 |
2.2 三光子吸收截面的理论拟合 | 第35-36页 |
2.3 三光子吸收截面的实验测量 | 第36-37页 |
2.4 三光子吸收理论拟合与实验测量的比较 | 第37-39页 |
本章小结 | 第39-40页 |
参考文献 | 第40-42页 |
第三章 3,6 二溴-9,9 二辛基芴的合成及其结构表征 | 第42-60页 |
3.1 三光子吸收材料的设计 | 第42页 |
3.2 三光子吸收材料新的研究方法 | 第42-43页 |
3.3 新物质的合成 | 第43-46页 |
3.3.1 实验用到的主要试剂 | 第43-44页 |
3.3.2 合成用到的仪器设备 | 第44页 |
3.3.3 反应过程 | 第44-46页 |
3.4 合成物质的结构表征 | 第46-58页 |
3.4.1 表征用到的仪器设备 | 第46页 |
3.4.2 合成新化合物的核磁共振 | 第46-55页 |
3.4.3 合成化合物的红外吸收光谱 | 第55-58页 |
参考文献 | 第58-60页 |
第四章 不同取代位对芴类衍生物三光子吸收特性的影响 | 第60-68页 |
4.1 研究背景 | 第60-61页 |
4.2 三种不同取代位的芴类衍生物的高斯计算及比较 | 第61-65页 |
4.3 结论 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-68页 |
第五章 结束语及展望 | 第68-70页 |
5.1 结论 | 第68-69页 |
5.2 展望 | 第69-70页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第70-72页 |
致谢 | 第72-73页 |