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半导体共振隧穿及零维体系中全带电子结构的计算

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-10页
第一章 绪论第10-15页
   ·自旋电子学概述第10页
   ·自旋电子学的研究历史第10-13页
   ·自旋电子学的应用及其前景第13-15页
第二章 低维半导体电子结构的计算方法第15-28页
   ·一维半导体的计算方法第15-24页
     ·一维半导体计算方法概述第15页
     ·自洽求解方法第15-18页
     ·一维半导体计算中的单带模型与多带模型第18-24页
   ·零维半导体的计算方法第24-28页
第三章 界面电荷对GaN共振隧穿二极管特性的影响第28-37页
   ·引言第28页
   ·器件结构与计算原理第28-31页
     ·器件结构第28-29页
     ·非平衡格林函数方法第29-31页
   ·结果与讨论第31-36页
     ·界面电荷对GaN共振隧穿二极管共振电压的影响第31-35页
     ·界面电荷对GaN共振隧穿二极管峰谷比的影响第35-36页
   ·结论第36-37页
第四章 InGaAs/GaAs金字塔型量子点的g因子研究第37-55页
   ·引言第37-40页
   ·器件结构和计算方法第40-42页
   ·结果和讨论第42-54页
     ·量子点的宽度、高度、组分对量子点能级的影响第42-45页
     ·低磁场下,宽度、高度、组分等参数对量子点g因子的影响第45-50页
     ·高磁场下量子点尺寸对其电子能级特性的影响第50-54页
   ·结论第54-55页
第五章 结论与展望第55-57页
附录 发表论文和科研情况第57-58页
参考文献第58-61页
致谢第61-62页

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