基于飞秒激光直写的边发射半导体激光器整形技术研究
摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第10-16页 |
1.1 概述 | 第10页 |
1.2 半导体激光器简介 | 第10-15页 |
1.2.1 半导体激光器光束整形的意义 | 第11-12页 |
1.2.2 半导体激光器光束整形技术简介 | 第12-15页 |
1.3 本论文主要内容 | 第15-16页 |
第2章 飞秒激光直写技术 | 第16-26页 |
2.0 激光直写技术的发展与现状 | 第16页 |
2.1 飞秒激光直写技术的特点 | 第16-19页 |
2.2 飞秒激光直写技术的基本原理 | 第19-22页 |
2.2.1 双光子吸收原理 | 第19-21页 |
2.2.2 光引发聚合反应 | 第21-22页 |
2.3 飞秒激光直写系统 | 第22-26页 |
第3章 整形透镜的设计加工与表征 | 第26-37页 |
3.1 边发射半导体激光器出射光场的特性 | 第26-28页 |
3.2 整形透镜的设计与加工 | 第28-32页 |
3.3 整形透镜的几何形貌的表征 | 第32-35页 |
3.4 整形透镜光学性能的表征 | 第35-37页 |
第4章 整形结果及光纤耦合效率的测试 | 第37-45页 |
4.1 整形测试系统的搭建 | 第37-39页 |
4.2 整形效果的分析 | 第39-41页 |
4.2.1 整形后发散角的测试 | 第39-40页 |
4.2.2 整形效果的理论分析 | 第40-41页 |
4.3 光纤耦合系统的搭建 | 第41-43页 |
4.4 光纤耦合效率的分析 | 第43-45页 |
第5章 结论与展望 | 第45-47页 |
参考文献 | 第47-52页 |
作者简介及在学期间所取得的科研成果 | 第52-53页 |
致谢 | 第53页 |