PECVD制备双陷波滤光片
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 PECVD技术的研究现状 | 第10-12页 |
| 1.3 双陷波滤光片的研究现状 | 第12-13页 |
| 1.4 课题研究内容 | 第13-15页 |
| 2 课题研究方案及可行性论证 | 第15-23页 |
| 2.1 课题研究方案 | 第15-16页 |
| 2.2 可行性论证 | 第16-22页 |
| 2.2.1 膜系设计的可行性 | 第16-18页 |
| 2.2.2 PECVD制备光学薄膜的可行性 | 第18-20页 |
| 2.2.3 薄膜测试分析的可行性 | 第20-22页 |
| 2.3 本章小结 | 第22-23页 |
| 3 双陷波滤光片的膜系设计基础 | 第23-35页 |
| 3.1 光学薄膜的特性计算 | 第23-28页 |
| 3.2 陷波滤光片的特性计算 | 第28-30页 |
| 3.3 双陷波滤光片的膜系设计理论 | 第30-34页 |
| 3.3.1 传统HL膜系理论 | 第30页 |
| 3.3.2 Rugate膜系理论 | 第30-32页 |
| 3.3.3 混合渐变膜系理论 | 第32-33页 |
| 3.3.4 倍频膜系理论 | 第33-34页 |
| 3.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 4 双陷波滤光片的膜系设计方法研究 | 第35-52页 |
| 4.1 设计指标 | 第35页 |
| 4.2 材料选取 | 第35-36页 |
| 4.3 设计方案 | 第36-50页 |
| 4.3.1 传统HL膜系方案 | 第36-45页 |
| 4.3.2 Rugate膜系方案 | 第45-47页 |
| 4.3.3 混合渐变膜系方案 | 第47-50页 |
| 4.4 方案比较 | 第50-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 5 双陷波滤光片的制备 | 第52-63页 |
| 5.1 低/中/高三种折射率材料的工艺技术研究 | 第52-55页 |
| 5.1.1 SiO_xF_y薄膜的工艺研究 | 第52-53页 |
| 5.1.2 SiO_xN_y薄膜的工艺研究 | 第53-54页 |
| 5.1.3 SiN_x薄膜的工艺研究 | 第54-55页 |
| 5.2 镀制工艺流程 | 第55页 |
| 5.3 双陷波滤光片制备 | 第55-57页 |
| 5.4 样片测试与分析 | 第57-61页 |
| 5.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 6 结论与展望 | 第63-65页 |
| 6.1 结论 | 第63-64页 |
| 6.2 展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
