中文摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第一章 前言 | 第9-28页 |
1.1 光催化研究背景 | 第9页 |
1.2 半导体光催化原理 | 第9-13页 |
1.2.1 半导体能带结构 | 第10-11页 |
1.2.2 光催化基本原理 | 第11-13页 |
1.3 光催化剂的研究进展 | 第13-20页 |
1.3.1 表面贵金属沉积 | 第13-14页 |
1.3.2 掺杂改性 | 第14-16页 |
1.3.2.1 金属阳离子掺杂 | 第15页 |
1.3.2.2 非金属阴离子掺杂 | 第15-16页 |
1.3.3 半导体复合 | 第16-18页 |
1.3.4 形貌调控 | 第18-20页 |
1.4 二维材料及其光催化应用 | 第20-24页 |
1.4.1 石墨烯 | 第21-22页 |
1.4.2 二硫化铝(MoS_2) | 第22-23页 |
1.4.3 石墨相氮化碳 | 第23-24页 |
1.5 金属硫化物(M_xS_y)简介 | 第24-25页 |
1.5.1 硫化镉(CdS) | 第24-25页 |
1.5.2 硫铟锌(ZnIn_2S_4) | 第25页 |
1.6 立题依据和研究内容 | 第25-28页 |
1.6.1 立题依据 | 第25-26页 |
1.6.2 研究内容 | 第26-27页 |
1.6.3 创新之处 | 第27-28页 |
第二章 实验部分 | 第28-35页 |
2.1 实验试剂和仪器 | 第28-29页 |
2.1.1 主要实验药品 | 第28-29页 |
2.1.2 主要实验仪器 | 第29页 |
2.2 主要实验合成方法 | 第29-30页 |
2.2.1 固相热缩聚 | 第29-30页 |
2.2.2 水热/溶剂热法 | 第30页 |
2.3 光催化剂的表征 | 第30-32页 |
2.3.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第30-31页 |
2.3.2 场发射扫描电镜(SEM) | 第31页 |
2.3.3 透射电镜(TEM) | 第31页 |
2.3.4 原子力显微镜(AFM) | 第31页 |
2.3.5 傅里叶红外光谱(FTIR) | 第31页 |
2.3.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第31-32页 |
2.3.7 紫外-可见漫反射光谱(DRS) | 第32页 |
2.3.8 低温氮气吸脱附曲线(BET) | 第32页 |
2.3.9 荧光光谱(PL) | 第32页 |
2.3.10 光电化学性能测试 | 第32页 |
2.4 材料的光催化性能评价 | 第32-35页 |
2.4.1 液相可见光光催化反应 | 第32-33页 |
2.4.2 光解水产氢 | 第33-35页 |
第三章 超薄g-C_3N_4纳米片/CdS复合光催化剂的制备及其性能研究 | 第35-52页 |
3.1 引言 | 第35-36页 |
3.2 光催化剂的制备 | 第36-38页 |
3.2.1 超薄g-C_3N_4纳米片/CdS复合光催化剂的制备 | 第36-38页 |
3.3 光催化性能测试 | 第38页 |
3.4 结果与讨论 | 第38-51页 |
3.4.1 晶相结构 | 第38-39页 |
3.4.2 微观形貌 | 第39-41页 |
3.4.3 化学组成及表面结构 | 第41-43页 |
3.4.4 光吸收性能 | 第43页 |
3.4.5 光催化活性 | 第43-45页 |
3.4.6 比表面积分析 | 第45-46页 |
3.4.7 稳定性分析 | 第46-48页 |
3.4.8 光催化性能促进作用的分析 | 第48-50页 |
3.4.9 主要活性物种 | 第50-51页 |
3.5 本章小结 | 第51-52页 |
第四章 一步法合成花状ZnIn_2S_4复合超薄MoS_2纳米片及其光催化产氢性能的研究 | 第52-65页 |
4.1 引言 | 第52-54页 |
4.2 光催化剂的制备 | 第54页 |
4.2.1 MoS_2纳米片的制备 | 第54页 |
4.2.2 MoS_2/ZnIn_2S_4复合光催化剂的制备 | 第54页 |
4.3 光催化性能测试 | 第54-55页 |
4.4 结果与讨论 | 第55-64页 |
4.4.1 MoS_2纳米片的微观形貌和组成分析 | 第55-56页 |
4.4.2 样品的晶相结构 | 第56-57页 |
4.4.3 样品的微观形貌 | 第57-59页 |
4.4.4 样品的光学性质 | 第59-60页 |
4.4.5 光解水产氢性能评价 | 第60-61页 |
4.4.6 比表面积分析 | 第61-62页 |
4.4.7 光电流性质分析 | 第62页 |
4.4.8 光催化剂的稳定性分析 | 第62-64页 |
4.5 本章小结 | 第64-65页 |
结论与展望 | 第65-67页 |
结论 | 第65-66页 |
后续展望 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
个人简历 | 第78-79页 |
在读期间已发表和录用的论文 | 第79页 |