浸液温度控制建模与算法实现
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 课题背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外浸没式光刻技术发展现状 | 第9-10页 |
| 1.3 浸没式光刻原理 | 第10-12页 |
| 1.4 浸液温度对光刻性能的影响 | 第12页 |
| 1.5 温度控制算法概述 | 第12-14页 |
| 1.6 本文的主要研究内容 | 第14-16页 |
| 2 浸液温控系统需求及原理 | 第16-26页 |
| 2.1 浸液系统分布结构 | 第16-17页 |
| 2.2 浸液温控系统需求 | 第17页 |
| 2.3 浸液温控系统原理 | 第17-22页 |
| 2.4 浸液温控系统组成 | 第22-25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-26页 |
| 3 浸液温控系统建模及辨识 | 第26-41页 |
| 3.1 浸液温控系统控制结构 | 第26-30页 |
| 3.2 浸液温控系统控制对象建模 | 第30-33页 |
| 3.3 浸液温控系统辨识 | 第33-40页 |
| 3.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 4 温度控制算法设计与仿真 | 第41-53页 |
| 4.1 温控算法组成 | 第41-42页 |
| 4.2 主、副控制器设计 | 第42-43页 |
| 4.3 前馈控制器设计 | 第43-46页 |
| 4.4 纯滞后补偿控制器设计 | 第46-47页 |
| 4.5 算法控制流程图 | 第47-50页 |
| 4.6 算法仿真测试 | 第50-51页 |
| 4.7 本章小结 | 第51-53页 |
| 5 算法实验平台建立及算法验证 | 第53-67页 |
| 5.1 实验平台的搭建 | 第53-56页 |
| 5.2 测试项设计 | 第56-57页 |
| 5.3 实验方案设计 | 第57-61页 |
| 5.4 实验及结果分析 | 第61-66页 |
| 5.5 本章小结 | 第66-67页 |
| 6 全文总结与展望 | 第67-69页 |
| 6.1 全文总结 | 第67-68页 |
| 6.2 研究展望 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 附录1攻读硕士学位期间申请的专利 | 第73页 |
