电磁冲击增强激光熔化沉积的电磁力数值模拟
摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5页 |
第一章 绪论 | 第12-22页 |
1.1 课题背景 | 第12-13页 |
1.2 激光熔化沉积技术 | 第13-18页 |
1.2.1 原理及特点 | 第13-14页 |
1.2.2 国内外发展现状 | 第14-17页 |
1.2.3 存在的问题及发展方向 | 第17-18页 |
1.3 电磁成形技术 | 第18-20页 |
1.3.1 平板电磁成形技术的原理及特点 | 第18-19页 |
1.3.2 电磁成形技术的研究现状 | 第19-20页 |
1.4 磁处理增强金属性能 | 第20-21页 |
1.5 本课题主要研究目的和内容 | 第21页 |
1.6 本章小结 | 第21-22页 |
第二章 电磁冲击增强激光熔化沉积理论基础 | 第22-30页 |
2.1 沉积层所受电磁力理论分析 | 第22-26页 |
2.1.1 沉积层感应电流推导 | 第22-23页 |
2.1.2 线圈在空间激发的磁场磁感应强度推导 | 第23-25页 |
2.1.3 沉积层所受电磁力及影响因素 | 第25-26页 |
2.2 电磁冲击消减激光熔化沉积残余应力的机理 | 第26-29页 |
2.2.1 激光熔化沉积残余应力的产生 | 第26-27页 |
2.2.2 激光熔化沉积残余应力的控制方法 | 第27-29页 |
2.2.3 电磁冲击消减残余应力机理 | 第29页 |
2.3 本章小结 | 第29-30页 |
第三章 沉积层所受电磁力数值模拟 | 第30-41页 |
3.1 电磁冲击增强激光熔化沉积原理 | 第30-31页 |
3.2 线圈-沉积层-基板系统的有限元模型的建立 | 第31-32页 |
3.2.1 Ansoft Maxwell简介 | 第31页 |
3.2.2 有限元的建立 | 第31页 |
3.2.3 电磁冲击系统仿真参数 | 第31-32页 |
3.3 电磁力时间和空间特性分析 | 第32-36页 |
3.3.1 沉积层电磁场和涡流场分布规律 | 第32-33页 |
3.3.2 沉积层所受电磁力时间特性 | 第33-35页 |
3.3.3 沉积层所受电磁力空间特性 | 第35-36页 |
3.4 电参数对沉积层上电磁力影响 | 第36-38页 |
3.4.1 电流有效值对沉积层所受电磁力影响 | 第36-37页 |
3.4.2 电流频率对沉积层所受电磁力影响 | 第37-38页 |
3.5 几何参数对沉积层上电磁力影响 | 第38-40页 |
3.5.1 线圈匝数的影响 | 第38-39页 |
3.5.2 线圈内外径尺寸的影响 | 第39-40页 |
3.5.3 线圈导线高度的影响 | 第40页 |
3.6 本章小结 | 第40-41页 |
第四章 集磁器线圈 | 第41-51页 |
4.1 施力区域的确定 | 第41-43页 |
4.2 集磁器线圈的工作原理及特点 | 第43-47页 |
4.2.1 集磁器线圈的工作原理及特点 | 第43-45页 |
4.2.2 集磁器线圈在工件上的电磁力分析 | 第45-47页 |
4.3 集磁器各参数的优化设计 | 第47-50页 |
4.3.1 集磁器内孔半径对电磁力影响 | 第48-49页 |
4.3.2 集磁器上表面半径对电磁力影响 | 第49-50页 |
4.3.3 集磁器下表面半径对电磁力影响 | 第50页 |
4.4 本章小结 | 第50-51页 |
第五章 电磁冲击增强激光熔化沉积试验及结果分析 | 第51-62页 |
5.1 试验总体规划 | 第51页 |
5.2 试验条件 | 第51-54页 |
5.2.1 激光熔化沉积装置 | 第51-52页 |
5.2.2 电磁冲击增强激光熔化沉积装置 | 第52-53页 |
5.2.3 试验材料 | 第53-54页 |
5.3 试验方法 | 第54-57页 |
5.3.1 试验预处理 | 第54页 |
5.3.2 试验参数 | 第54-57页 |
5.4 试验结果测试及分析 | 第57-61页 |
5.4.1 沉积层显微组织与显微硬度 | 第57-60页 |
5.4.2 制件残余应力 | 第60-61页 |
5.5 本章小结 | 第61-62页 |
第六章 总结与展望 | 第62-64页 |
6.1 本文完成的主要工作 | 第62-63页 |
6.2 后续研究工作展望 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第72页 |