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DSP的总剂量效应研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-15页
   ·课题研究背景第7页
   ·空间辐射效应及研究方法第7-9页
     ·空间辐射效应第7-8页
     ·总剂量试验方法第8-9页
   ·DSP 总剂量效应的国内外现状第9-12页
     ·国外研究现状第9-10页
     ·国内研究现状第10-12页
   ·论文组织结构第12-15页
第二章 MOS 器件的总剂量效应分析第15-31页
   ·MOSFET 总剂量效应分析第15-22页
     ·总剂量效应概述第16-17页
     ·MOS 器件的阈值电压漂移第17-18页
     ·MOS 器件的漏电流分析第18-21页
     ·MOS 器件总剂量下的最劣偏置第21-22页
   ·CMOS 单元电路的总剂量效应分析第22-30页
     ·总剂量效应的失效表征第23页
     ·CMOS 单元电路的总剂量效应分析第23-29页
     ·CMOS 单元电路的最劣偏置第29-30页
   ·本章小结第30-31页
第三章 DSP 的总剂量敏感性分析第31-45页
   ·TMS320C6701 的基本结构与工作原理第31-33页
     ·CPU 单元第31-32页
     ·片上存储器第32页
     ·外设单元第32-33页
   ·DSP 总剂量敏感性分析第33-42页
     ·输入输出电路总剂量效应分析第34-40页
     ·内核电路的总剂量效应分析第40-42页
   ·DSP 总剂量试验的关键性能参数第42-43页
   ·本章小结第43-45页
第四章 DSP 总剂量实验方案设计第45-57页
   ·国内外总剂量试验标准对比第45-46页
   ·总剂量试验方法研究第46-49页
     ·剂量率的选择第46-47页
     ·偏置的选择第47-48页
     ·退火的选择第48-49页
   ·DSP 的总剂量实验方案第49-54页
     ·DSP 总剂量测试系统第49-51页
     ·静态试验的流程及调试第51-53页
     ·动态试验的流程及调试第53-54页
   ·本章小结第54-57页
第五章 总结与展望第57-59页
致谢第59-61页
参考文献第61-64页

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