DSP的总剂量效应研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-7页 |
第一章 绪论 | 第7-15页 |
·课题研究背景 | 第7页 |
·空间辐射效应及研究方法 | 第7-9页 |
·空间辐射效应 | 第7-8页 |
·总剂量试验方法 | 第8-9页 |
·DSP 总剂量效应的国内外现状 | 第9-12页 |
·国外研究现状 | 第9-10页 |
·国内研究现状 | 第10-12页 |
·论文组织结构 | 第12-15页 |
第二章 MOS 器件的总剂量效应分析 | 第15-31页 |
·MOSFET 总剂量效应分析 | 第15-22页 |
·总剂量效应概述 | 第16-17页 |
·MOS 器件的阈值电压漂移 | 第17-18页 |
·MOS 器件的漏电流分析 | 第18-21页 |
·MOS 器件总剂量下的最劣偏置 | 第21-22页 |
·CMOS 单元电路的总剂量效应分析 | 第22-30页 |
·总剂量效应的失效表征 | 第23页 |
·CMOS 单元电路的总剂量效应分析 | 第23-29页 |
·CMOS 单元电路的最劣偏置 | 第29-30页 |
·本章小结 | 第30-31页 |
第三章 DSP 的总剂量敏感性分析 | 第31-45页 |
·TMS320C6701 的基本结构与工作原理 | 第31-33页 |
·CPU 单元 | 第31-32页 |
·片上存储器 | 第32页 |
·外设单元 | 第32-33页 |
·DSP 总剂量敏感性分析 | 第33-42页 |
·输入输出电路总剂量效应分析 | 第34-40页 |
·内核电路的总剂量效应分析 | 第40-42页 |
·DSP 总剂量试验的关键性能参数 | 第42-43页 |
·本章小结 | 第43-45页 |
第四章 DSP 总剂量实验方案设计 | 第45-57页 |
·国内外总剂量试验标准对比 | 第45-46页 |
·总剂量试验方法研究 | 第46-49页 |
·剂量率的选择 | 第46-47页 |
·偏置的选择 | 第47-48页 |
·退火的选择 | 第48-49页 |
·DSP 的总剂量实验方案 | 第49-54页 |
·DSP 总剂量测试系统 | 第49-51页 |
·静态试验的流程及调试 | 第51-53页 |
·动态试验的流程及调试 | 第53-54页 |
·本章小结 | 第54-57页 |
第五章 总结与展望 | 第57-59页 |
致谢 | 第59-61页 |
参考文献 | 第61-64页 |