非晶硅薄膜生成和拉伸的分子动力学模拟
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-11页 |
| ·非晶硅薄膜的特点 | 第9页 |
| ·非晶硅薄膜电池的研究历史,现状及展望 | 第9-10页 |
| ·本文研究工作的目的、意义和内容 | 第10-11页 |
| 第2章 分子动力学模拟方法概述 | 第11-20页 |
| ·分子动力学原理 | 第11页 |
| ·牛顿运动方程 | 第11-12页 |
| ·原子间的作用势 | 第12-15页 |
| ·对势模型 | 第12-13页 |
| ·多体势 | 第13-15页 |
| ·计算方法 | 第15页 |
| ·模拟中几个物理量的计算 | 第15-17页 |
| ·分子动力学模拟的系综 | 第17页 |
| ·系综的控制方法 | 第17-20页 |
| ·控温方法 | 第18-19页 |
| ·控压方法 | 第19-20页 |
| 第3章 硅表面生成非晶硅薄膜的分子动力学模拟 | 第20-42页 |
| ·不同的基底温度下生成的薄膜 | 第20-28页 |
| ·不同的入射温度下生成的薄膜 | 第28-32页 |
| ·不同的入射方向下生成的薄膜 | 第32-38页 |
| ·不同的入射速度下生成的薄膜 | 第38-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 非晶硅薄膜的拉伸模拟 | 第42-49页 |
| ·第一种方法 | 第42-46页 |
| ·第二种方法 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-56页 |
| 致谢 | 第56页 |