| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·ZnO 薄膜的结构与基本性质 | 第10-12页 |
| ·ZnO 的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·ZnO 的基本性质 | 第11-12页 |
| ·ZnO 薄膜的掺杂研究 | 第12-18页 |
| ·ZnO 薄膜的 n 型掺杂 | 第14页 |
| ·ZnO 薄膜的 p 型掺杂 | 第14-18页 |
| ·ZnO 薄膜的应用 | 第18-19页 |
| ·论文选题依据及研究内容 | 第19-21页 |
| ·本论文的选题背景 | 第19页 |
| ·本论文的主要内容 | 第19-21页 |
| 第2章 ZnO 薄膜制备技术与表征方法 | 第21-28页 |
| ·磁控溅射技术及其原理 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射技术 | 第21-22页 |
| ·辉光放电原理 | 第22-23页 |
| ·样品的分析和表征方法 | 第23-27页 |
| ·X 射线衍射分析（X-Ray Diffraction，XRD） | 第23-24页 |
| ·扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscopy，SEM） | 第24-25页 |
| ·四探针法 | 第25-26页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第26页 |
| ·台阶仪 | 第26-27页 |
| ·本研究设备概况 | 第27-28页 |
| 第3章 溅射功率对 Al 掺杂 ZnO 薄膜的影响 | 第28-35页 |
| ·实验方法 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-34页 |
| ·溅射功率对 AZO 薄膜结构性能的影响 | 第29-31页 |
| ·溅射功率对 AZO 薄膜光电性能的影响 | 第31-32页 |
| ·溅射功率对 AZO 薄膜表面形貌的影响 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第4章 不同缓冲层对 Al 掺杂 ZnO 薄膜的影响 | 第35-42页 |
| ·外延技术 | 第35-36页 |
| ·实验方法 | 第36-37页 |
| ·结果与讨论 | 第37-41页 |
| ·不同缓冲层对 AZO 薄膜结构性能的影响 | 第37-40页 |
| ·不同缓冲层对 AZO 薄膜光学性能的影响 | 第40页 |
| ·不同缓冲层对 AZO 薄膜电学性能的影响 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 结束语 | 第42-44页 |
| 致谢 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-50页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第50页 |
