硼碳氮薄膜的磁控溅射法制备及其结构研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| ·硼碳氮材料的起源 | 第10-11页 |
| ·金刚石与立方氮化硼 | 第10-11页 |
| ·石墨与六方氮化硼 | 第11页 |
| ·硼碳氮材料发展与研究现状 | 第11-20页 |
| ·硼碳氮材料发展 | 第12页 |
| ·硼碳氮材料结构研究 | 第12-14页 |
| ·硼碳氮材料的实验合成方法 | 第14-19页 |
| ·实验研究所存在的问题 | 第19-20页 |
| ·硼碳氮材料的性质及其应用前景 | 第20-21页 |
| ·硼碳氮薄膜的表征 | 第21-26页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FTIR) | 第21-22页 |
| ·拉曼光谱 | 第22-23页 |
| ·X-射线光电子能谱(XPS) | 第23-25页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第25-26页 |
| 第2章 薄膜沉积设备原理与实验过程 | 第26-32页 |
| ·射频磁控溅射所用试验设备 | 第26-27页 |
| ·薄膜沉积原理 | 第27-30页 |
| ·溅射机理 | 第27-28页 |
| ·溅射率及其影响因素 | 第28-29页 |
| ·射频磁控溅射 | 第29-30页 |
| ·实验过程 | 第30-31页 |
| ·基底表面处理 | 第30页 |
| ·薄膜制备的基本程序 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 实验结果与分析 | 第32-54页 |
| ·溅射时间对硼碳氮薄膜的影响 | 第32-35页 |
| ·射频功率对硼碳氮薄膜的影响 | 第35-37页 |
| ·直流功率对硼碳氮薄膜的影响 | 第37-42页 |
| ·基底偏压对硼碳氮薄膜的影响 | 第42-45页 |
| ·工作气压对硼碳氮薄膜的影响 | 第45-47页 |
| ·基底温度对硼碳氮薄膜的影响 | 第47-50页 |
| ·气体成分对硼碳氮薄膜的影响 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-62页 |
| 攻读学位期间发表学术论文 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
