| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-32页 |
| ·磁记录介质概述及磁记录薄膜物理 | 第12-18页 |
| ·磁记录物理简介 | 第12-15页 |
| ·磁记录介质的研究背景及发展现状 | 第15-18页 |
| ·FePt 磁记录薄膜的研究概况 | 第18-26页 |
| ·FePt 薄膜的主要制备方法 | 第19-20页 |
| ·FePt 磁记录薄膜结构和性能简介 | 第20-22页 |
| ·FePt 磁记录薄膜研究的热点问题 | 第22-26页 |
| ·FePt 磁记录薄膜有序化问题的研究概况 | 第26-28页 |
| ·选题意义及研究内容 | 第28-32页 |
| 第2章 实验原理及方法 | 第32-46页 |
| ·磁控溅射法制备原始态FePt 薄膜 | 第32-36页 |
| ·磁控溅射原理 | 第32-33页 |
| ·直流溅射原理及装置 | 第33-35页 |
| ·薄膜生长过程 | 第35-36页 |
| ·超高真空退火制备L1_0 有序FePt 薄膜 | 第36-37页 |
| ·FePt 薄膜的成分分析 | 第37-38页 |
| ·FePt 薄膜的结构表征 | 第38-44页 |
| ·X 射线衍射实验与分析原理 | 第38-43页 |
| ·透射电子显微分析 | 第43-44页 |
| ·FePt 薄膜磁性能测试 | 第44-46页 |
| 第3章 FePt 薄膜中L1_0有序畴的形核及生长动力学 | 第46-64页 |
| ·引言 | 第46-47页 |
| ·实验方法 | 第47-48页 |
| ·生长激活能的计算 | 第48-53页 |
| ·形核激活能的计算 | 第53-57页 |
| ·平均转变激活能的计算 | 第57-60页 |
| ·分析讨论 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第4章 界面反应加速FePt 薄膜的L1_0有序化 | 第64-88页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·实验方法 | 第64-65页 |
| ·界面反应对FePt 薄膜有序化过程的影响 | 第65-74页 |
| ·PtSi 界面反应层作为扩散阻挡层的研究 | 第74-82页 |
| ·薄膜厚度对界面反应促进FePt 薄膜有序化过程的影响 | 第82-87页 |
| ·本章小结 | 第87-88页 |
| 第5章 超细纳米晶FePt 薄膜的L1_0有序化 | 第88-110页 |
| ·引言 | 第88-89页 |
| ·实验方法 | 第89页 |
| ·原始态晶粒尺寸细化促进FePt 薄膜的L1_0 有序化 | 第89-102页 |
| ·晶粒细化促进FePt 薄膜有序化的机制探讨 | 第102-109页 |
| ·本章小结 | 第109-110页 |
| 结论 | 第110-111页 |
| 参考文献 | 第111-121页 |
| 攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第121-125页 |
| 致谢 | 第125-126页 |
| 作者简介 | 第126页 |
