| 中文摘要 | 第1-13页 |
| 英文摘要 | 第13-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-25页 |
| ·太阳能产业的发展情况 | 第17-21页 |
| ·晶体硅太阳能电池新技术的发展情况 | 第21-22页 |
| ·研究酸液腐蚀对太阳能电池的意义 | 第22-23页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第23-25页 |
| 第二章 新型腐蚀液对硅腐蚀机理的研究 | 第25-76页 |
| ·硅片在 HF 体系中的腐蚀 | 第25-29页 |
| ·硅片在HF 体系中的腐蚀机理 | 第25-27页 |
| ·影响硅片在HF 体系中腐蚀速度的因素 | 第27-29页 |
| ·反应速度理论 | 第29-30页 |
| ·电解质溶液活度系数的计算方法 | 第30-34页 |
| ·硅片在 HF/HNO_3/NH_3·H_2O/H_2O 体系中反应规律初探 | 第34-40页 |
| ·正交试验及其设计 | 第34-37页 |
| ·正交试验的结果及分析 | 第37-40页 |
| ·氨水加入量对反应速度的影响 | 第40-61页 |
| ·实验及结果 | 第40-43页 |
| ·溶液成份及活度系数对腐蚀速度的影响 | 第43-51页 |
| ·三相体系的建立及对腐蚀速度变化规律的解释 | 第51-58页 |
| ·气体搅拌原理对腐蚀速度的解释 | 第58-61页 |
| ·硅片腐蚀速度随反应时间的变化 | 第61-74页 |
| ·实验部分 | 第61-62页 |
| ·加氨水后腐蚀速度及溶液温度随反应时间的变化规律 | 第62-64页 |
| ·腐蚀液中氟离子的测试及其随反应时间的变化规律 | 第64-67页 |
| ·腐蚀速率随反应时间变化规律的解释 | 第67-68页 |
| ·加氨水酸液与不加氨水酸液对硅片腐蚀的比较 | 第68-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第三章 新型腐蚀液在多晶硅太阳电池绒面制备上的应用 | 第76-96页 |
| ·多晶硅绒面制备的研究概况 | 第76-83页 |
| ·几种腐蚀液制备多晶硅表面的比较 | 第83-91页 |
| ·实验及结果 | 第83-86页 |
| ·氨水存在情况下腐蚀坑的形成机理 | 第86-88页 |
| ·不同腐蚀液处理多晶硅表面反射率的比较 | 第88-91页 |
| ·不同腐蚀液处理多晶硅所制备电池性能的比较及分析 | 第91-95页 |
| ·本章小结 | 第95-96页 |
| 第四章 新型腐蚀液在晶体硅太阳电池p-n 结分离上的应用 | 第96-125页 |
| ·p-n 结分离工艺研究概况 | 第96-98页 |
| ·背腐蚀法分离p-n 结的原理 | 第98-101页 |
| ·不同p-n 结分离方法所制备电池性能的比较 | 第101-102页 |
| ·背腐蚀工艺对电池电压的影响 | 第102-120页 |
| ·背腐蚀法对硅片电压的影响 | 第102-108页 |
| ·铝背场对电池电压的影响 | 第108-120页 |
| ·铝背场的简介 | 第108-112页 |
| ·铝背场的测试 | 第112-115页 |
| ·背腐蚀法制备的铝背场对电池电压的影响 | 第115-120页 |
| ·背腐蚀工艺对电池电流的影响 | 第120-122页 |
| ·背腐蚀工艺在多晶硅太阳能电池上的应用 | 第122-123页 |
| ·本章小结 | 第123-125页 |
| 第五章 总结与展望 | 第125-129页 |
| ·总结 | 第125-127页 |
| ·展望 | 第127-129页 |
| 参考文献 | 第129-137页 |
| 致谢 | 第137-138页 |
| 博士阶段所做的工作及发表论文情况 | 第138-139页 |
