用EGS4研究辐射反应器中的剂量分布
| 1 引言 | 第1-11页 |
| 1．1 电子束照射法脱硫脱硝机理 | 第8-9页 |
| 1．2 电子束照射法工艺特点和优点 | 第9页 |
| 1．3 电子束法脱硫技术现状和应用 | 第9页 |
| 1．4 烟气脱硫电子加速器装置及束流 | 第9-11页 |
| 2 基本原理 | 第11-27页 |
| 2．1 蒙特卡罗方法概述 | 第11-14页 |
| 2．1．1 蒙特卡罗方法的基本思想 | 第11页 |
| 2．1．2 蒙特卡罗方法的特点 | 第11-12页 |
| 2．1．3 随机抽样方法 | 第12-13页 |
| 2．1．4 解蒙特卡罗问题主要步骤 | 第13-14页 |
| 2．2 EGS4程序包 | 第14-20页 |
| 2．2．1 EGS4程序包概述 | 第14-17页 |
| 2．2．2 EGS4程序的特点 | 第17-18页 |
| 2．2．3 EGS4模拟过程 | 第18-20页 |
| 2．3 电子与物质的相互作用 | 第20-23页 |
| 2．3．1 电子电离损失 | 第21页 |
| 2．3．2 电子多次散射 | 第21-22页 |
| 2．3．3 电子轫致辐射 | 第22-23页 |
| 2．4 Γ射线与物质的相互作用 | 第23-25页 |
| 2．4．1 光电效应 | 第23-24页 |
| 2．4．2 康普顿散射 | 第24-25页 |
| 2．4．3 电子对生成 | 第25页 |
| 2．5 辐射剂量学的量与单位 | 第25-27页 |
| 3 EGS4程序的测试 | 第27-42页 |
| 3．1 程序开发平台和运行环境 | 第27页 |
| 3．2 测试程序的建立 | 第27-29页 |
| 3．2．1 剂量分布和标准偏差的计算 | 第27-29页 |
| 3．2．2 结果输出 | 第29页 |
| 3．3 测试与结果分析 | 第29-41页 |
| 3．3．1 电子在铝中的平均射程 | 第29-30页 |
| 3．3．2 电子以平行宽束入射水模的深度剂量分布 | 第30-31页 |
| 3．3．3 光子以平行宽束入射水模的深度剂量分布 | 第31-32页 |
| 3．3．4 电子束辐照反应器剂量的剂量分布 | 第32-41页 |
| 3．4 结论 | 第41-42页 |
| 4 电子束辐照反应器剂量的模拟计算 | 第42-61页 |
| 4．1 加速器参数 | 第42-43页 |
| 4．2 问题分析 | 第43-44页 |
| 4．3 源的描述 | 第44-47页 |
| 4．4 几何描述 | 第47-52页 |
| 4．5 结果与讨论 | 第52-61页 |
| 5 结束语 | 第61-63页 |
| 附录 | 第63-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-73页 |
| 在读硕士科研成果简介 | 第73-74页 |
| 声明 | 第74页 |
