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均匀沉淀法制备纳米Co3O4的研究

摘要(中)第1-4页
摘要(英)第4-6页
目录(中)第6-9页
目录(英)第9-12页
第一章 绪论第12-23页
 1.1 前言第12-13页
 1.2 四氧化三钴的性质第13-14页
 1.3 国内外四氧化三钴超细粉体研究进展第14-19页
  1.3.1 传统制备方法第14页
  1.3.2 直接氧化法第14-15页
  1.3.3 溶胶-凝胶法第15页
  1.3.4 微乳液法第15页
  1.3.5 液相控制沉淀法第15-16页
  1.3.6 均匀沉淀法第16-17页
  1.3.7 化学气相沉淀法第17页
  1.3.8 室温固相反应法第17页
  1.3.9 聚合物燃烧法第17-18页
  1.3.10 声化学法第18页
  1.3.11 其它方法第18-19页
 1.4 四氧化三钴超细粉体的应用第19-22页
  1.4.1 在压敏陶瓷中的应用第19页
  1.4.2 在气敏材料中的应用第19页
  1.4.3 无机颜料第19-20页
  1.4.4 电极第20-21页
  1.4.5 催化剂第21-22页
 选题内容、目的和意义第22页
 本章小结第22-23页
第二章 均匀沉淀法制备纳米Co_3O_4工艺条件的研究第23-35页
 2.1 反应机理第23-24页
 2.2 实验部分第24-26页
  2.2.1 实验仪器第24页
  2.2.2 实验试剂第24页
  2.2.3 实验方法及工艺流程第24-25页
  2.2.4 分析方法第25-26页
  2.2.5 产物的物相分析和粒径的测定第26页
 2.3 结果与讨论第26-34页
  2.3.1 沉淀产物的XRD分析第26-27页
  2.3.2 反应物浓度的选择第27-28页
  2.3.3 反应物摩尔比的选择第28-29页
  2.3.4 沉淀反应温度的选择第29-30页
  2.3.5 反应时间的选择第30页
  2.3.6 干燥温度和时间的选择第30-31页
  2.3.7 煅烧温度的选择第31-33页
  2.3.8 煅烧时间的选择第33-34页
 2.4 本章小结第34-35页
第三章 工艺条件的优化第35-44页
 3.1 优化目的第35页
 3.2 实验部分第35-38页
  3.2.1 实验药品和仪器第35页
  3.2.2 实验方法第35页
  3.2.3 因素与水平的选择第35-36页
  3.2.4 选择均匀设计表及表头设计第36-37页
  3.2.5 实验方案及其实施第37-38页
 3.3 结果与计算分析第38-42页
  3.3.1 回归方程第38页
  3.3.2 各因素对指标的影响第38-42页
  3.3.3 最优化反应条件第42页
 3.4 放大实验第42-43页
 3.5 本章小结第43-44页
第四章 聚合物分散剂对纳米Co_3O_4制备的影响第44-56页
 4.1 聚合物分散剂的作用第44-45页
  4.1.1 团聚产生的原因第44页
  4.1.2 粒径和团聚的控制第44-45页
 4.2 实验部分第45页
  4.2.1 主要试剂与仪器第45页
  4.2.2 实验方法第45页
 4.3 结果与讨论第45-55页
  4.3.1 聚乙二醇(PEG)对纳米Co_3O_4粒径的影响第45-46页
  4.3.2 聚丙烯酸钠(PAANa)对纳米Co_3O_4粒径的影响第46-47页
  4.3.3 TG-DTG分析第47-48页
  4.3.4 XRD衍射分析第48-49页
  4.3.5 透射电镜分析第49-53页
  4.3.6 IR红外光谱分析第53-55页
 4.4 本章小结第55-56页
第五章 均匀沉淀法制备纳米Co_3O_4动力学研究第56-69页
 5.1 实验部分第56-57页
  5.1.1 实验仪器第56页
  5.1.2 沉淀反应实验过程第56页
  5.1.3 热重和差热分析第56-57页
 5.2 结果与讨论第57-68页
  5.2.1 沉淀反应动力学研究第57-61页
  5.2.2 前驱体热分解动力学研究第61-68页
 5.3 本章小结第68-69页
总结第69-71页
参考文献第71-76页
硕士学位期间发表论文第76-77页
致谢第77页

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