| 第一章 引言 | 第1-18页 |
| §1．1 微细加工光刻技术 | 第7-9页 |
| §1．2 对准技术在曝光系统中的作用 | 第9-10页 |
| §1．3 几种光刻设备对准技术的研究及应用现状 | 第10-17页 |
| 1．3．1 光学投影系统对准技术 | 第10-12页 |
| 1．3．2 扫描电子束对准技术 | 第12-13页 |
| 1．3．3 电子束投影曝光对准技术 | 第13-16页 |
| 1．3．4 其他曝光对准技术 | 第16-17页 |
| §1．4 课题研究意义及任务 | 第17-18页 |
| 第二章 电子束缩小投影曝光机对准技术原理实验 | 第18-23页 |
| §2．1 对准技术原理简介 | 第18页 |
| §2．2 原理实验目的 | 第18页 |
| §2．3 幅值检测原理 | 第18-20页 |
| 2．3．1 背散射电子信号产生和检测 | 第18-19页 |
| 2．3．2 检测误差处理 | 第19-20页 |
| §2．4 数据产生及处理 | 第20-21页 |
| §2．5 对准结果及讨论 | 第21-23页 |
| 第三章 对准模拟软件及标记图形设计 | 第23-31页 |
| §3．1 软件设计意义 | 第23页 |
| §3．2 建立模拟软件数学模型 | 第23-24页 |
| §3．3 多边形相交的算法 | 第24-26页 |
| 3．3．1 判断平面内两多边形相交的算法及程序流程 | 第24-25页 |
| 3．3．2 交运算算法及程序流程 | 第25页 |
| 3．3．3 直线段与直线段求交程序 | 第25-26页 |
| §3．4 标记图案设计 | 第26-27页 |
| §3．5 标记信号模拟结果 | 第27-30页 |
| 3．5．1 不同设计标记的信号模拟 | 第27-28页 |
| 3．5．2 对掩模标记像与硅片标记间有偏转角度情况的模拟 | 第28-29页 |
| 3．5．3 模拟信号与检测实验信号对比 | 第29-30页 |
| §3．6 实验标记设计 | 第30-31页 |
| 第四章 对准实验 | 第31-44页 |
| §4．1 对准方案设计 | 第31页 |
| §4．2 标记检测及对准系统构成 | 第31-32页 |
| §4．3 偏转放大器校准 | 第32-36页 |
| 4．3．1 粗校准 | 第33-34页 |
| 4．3．2 细校准 | 第34-36页 |
| §4．4 实验过程及结果 | 第36-43页 |
| 4．4．1 实验过程 | 第36-38页 |
| 4．4．2 功能模块 | 第38-39页 |
| 4．4．3 标记信号检测实验模块 | 第39-42页 |
| 4．4．4 实验结果 | 第42-43页 |
| §4．5 结论 | 第43-44页 |
| 第五章 结论 | 第44-47页 |
| §5．1 课题的特点 | 第44页 |
| §5．2 课题的进展和突破 | 第44-46页 |
| 5．2．1 进展 | 第45页 |
| 5．2．2 突破 | 第45-46页 |
| §5．3 课题的深入研究 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 发表文章 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |