二硫化钨（WS2）薄膜的制备及其摩擦学性能
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·固体润滑剂 | 第11-14页 |
| ·润滑剂的分类 | 第11页 |
| ·固体润滑剂的分类 | 第11-12页 |
| ·固体润滑剂应具备的特性 | 第12-14页 |
| ·固体润滑膜 | 第14-17页 |
| ·固体润滑膜 | 第14页 |
| ·固体润滑膜的性能 | 第14-15页 |
| ·固体润滑膜的摩擦特性及影响因素 | 第15-17页 |
| ·固体润滑膜的磨损特性及影响因素 | 第17页 |
| ·二硫化钨概述 | 第17-21页 |
| ·WS_2基本性质 | 第17-19页 |
| ·WS_2固体润滑薄膜的润滑机理 | 第19-20页 |
| ·WS_2的用途 | 第20-21页 |
| ·WS_2薄膜 | 第21页 |
| ·二硫化钨的研究进展 | 第21-24页 |
| ·课题的立题依据和研究意义 | 第24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第2章 二硫化钨薄膜的制备 | 第25-39页 |
| ·溅射镀膜的原理及特点 | 第25-29页 |
| ·磁控溅射镀膜原理及特点 | 第25-27页 |
| ·反应磁控溅射镀膜原理及特点 | 第27页 |
| ·射频溅射镀膜原理及特点 | 第27-29页 |
| ·二硫化钨薄膜的制备工艺 | 第29-37页 |
| ·镀膜试验方案设计 | 第29页 |
| ·靶材制备 | 第29-30页 |
| ·实验材料的选用 | 第30页 |
| ·镀膜前基材样品的预处理 | 第30页 |
| ·实验设备 | 第30-34页 |
| ·WS_2薄膜沉积步骤 | 第34-36页 |
| ·WS_2薄膜沉积工艺参数 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第3章 二硫化钨薄膜结构分析和形貌表征 | 第39-57页 |
| ·结构分析 | 第39-46页 |
| ·薄膜结构的X射线衍射表征 | 第39-42页 |
| ·薄膜化学成分分析 | 第42-46页 |
| ·薄膜——基底界面结合强度和膜厚 | 第46-52页 |
| ·薄膜——基底界面结合强度测试 | 第46-50页 |
| ·薄膜厚度测定 | 第50-52页 |
| ·表面形貌 | 第52-55页 |
| ·反应磁控溅射硫化法沉积WS_2薄膜的表面形貌 | 第53-54页 |
| ·射频磁控溅射法沉积WS_2薄膜的表面形貌 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第4章 二硫化钨薄膜的摩擦学性能 | 第57-67页 |
| ·实验设备 | 第57-58页 |
| ·反应磁控溅射硫化法沉积二硫化钨薄膜摩擦学性能 | 第58-59页 |
| ·射频磁控溅射法沉积二硫化钨薄膜摩擦学性能 | 第59-65页 |
| ·溅射气压对摩擦系数的影响 | 第59-60页 |
| ·溅射功率对摩擦系数的影响 | 第60-61页 |
| ·溅射时间对摩擦系数的影响 | 第61-63页 |
| ·过渡层对摩擦系数的影响 | 第63-64页 |
| ·载荷对摩擦系数的影响 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第5章 结论 | 第67-69页 |
| ·结论 | 第67页 |
| ·建议 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
