| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| ·二极管泵浦固体激光器的发展及其应用 | 第8-9页 |
| ·泵浦光对二极管泵浦固体激光器性能控制的可行性 | 第9-10页 |
| ·泵浦光耦和技术及最新进展 | 第10-11页 |
| ·被动调Q存在的问题及最新进展 | 第11-12页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第12-15页 |
| ·光纤束耦合LD光场分布及其与超高斯光束的对应关系 | 第13页 |
| ·超高斯光束参数对DPL性能的影响 | 第13页 |
| ·满足增益预泵浦要求的电源研制 | 第13-15页 |
| 第二章 泵浦光光场分布对激光器性能的影响 | 第15-31页 |
| ·光纤束耦合LD输出光场及其与超高斯光束的关系 | 第15-24页 |
| ·超高斯光束光场分布及光纤束耦合理论 | 第15-16页 |
| ·七根光纤束耦合LD输出光场及其与超高斯光束的对比 | 第16-20页 |
| ·十九根光纤束耦合LD输出光场及其与超高斯光束的对比 | 第20-24页 |
| ·光纤束耦合LD输出光场与超高斯光束对比的结论 | 第24页 |
| ·超高斯光束光场分布对阈值功率的影响 | 第24-27页 |
| ·交叠积分的提出与激光器阈值功率的关系 | 第24-25页 |
| ·超高斯光束光场分布对阈值功率的影响 | 第25-27页 |
| ·超高斯光束光场分布对输出光束质量的影响 | 第27-31页 |
| ·泵浦光影响因子的提出及意义 | 第27-29页 |
| ·超高斯光束光场分布对泵浦光影响因子的影响 | 第29-31页 |
| 第三章 脉冲泵浦形式对被动调Q稳定性的影响 | 第31-42页 |
| ·激光调Q技术 | 第31-36页 |
| ·激光调Q过程及方法 | 第31-35页 |
| ·Cr~(4+)晶体在被动调Q应用中的优点 | 第35-36页 |
| ·DPL脉冲稳定性的提出 | 第36-37页 |
| ·增益预泵浦技术的提出 | 第37-40页 |
| ·影响脉冲稳定性的因素 | 第37-39页 |
| ·增益预泵浦技术的过程 | 第39-40页 |
| ·增益预泵浦各泵浦功率对被动调QDPL脉冲的稳定性的影响 | 第40-42页 |
| 第四章 满足增益预泵浦技术的电源设计 | 第42-53页 |
| ·半导体激光器的输出特性 | 第42-43页 |
| ·基于单片机控制的电流叠加开关脉冲电源设计 | 第43-48页 |
| ·增益预泵浦技术对电源的要求 | 第43页 |
| ·电流叠加开关的提出 | 第43-44页 |
| ·电源整体设计方案 | 第44-45页 |
| ·主要器件的参数特性 | 第45-48页 |
| ·控制电路的设计原理 | 第48-53页 |
| ·控制电路工作原理 | 第49-51页 |
| ·控制电路工作流程 | 第51-53页 |
| 第五章 电流叠加开关的仿真结果 | 第53-56页 |
| 第六章 展望与总结 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 研究成果 | 第62-63页 |
| 附录 | 第63-76页 |
| 附录A 电流叠加开关PCB板图 | 第63页 |
| 附录B 改进后的键盘扫描及数据存储程序 | 第63-70页 |
| 附录C 未经改动的旧有控制电路程序 | 第70-76页 |
