高气压直流辉光等离子体放电物理及技术应用研究
| 中文摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-32页 |
| ·直流放电研究的历史和现状 | 第12-24页 |
| ·高气压直流等离子体技术的发展 | 第24-26页 |
| ·PCVD 制备金刚石方法介绍 | 第26-29页 |
| ·本论文的主要内容 | 第29-32页 |
| 第2章 高气压直流等离子体的产生及其放电特性 | 第32-52页 |
| ·装置介绍 | 第32-34页 |
| ·高气压直流等离子体的放电式样 | 第34-37页 |
| ·影响等离子体稳定的因素 | 第37-42页 |
| ·等离子体放电特性 | 第42-50页 |
| ·放电电压与电流的关系 | 第42-43页 |
| ·放电电压与气压的关系 | 第43-47页 |
| ·放电电压与电极间距的关系 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第3章 高气压直流等离子体特性研究 | 第52-114页 |
| ·等离子体发射光谱诊断基本原理及实验设计 | 第52-69页 |
| ·粒子相对浓度变化 | 第52-55页 |
| ·电子激发温度 | 第55-60页 |
| ·气体温度 | 第60-61页 |
| ·Abel 变换 | 第61-64页 |
| ·光谱测量与修正 | 第64-69页 |
| ·等离子体特性研究 | 第69-112页 |
| ·空间分辨特性 | 第69-77页 |
| ·电学参数的影响 | 第77-93页 |
| ·气体参数的影响 | 第93-112页 |
| ·本章小结 | 第112-114页 |
| 第4章 高气压直流等离子体制备金刚石厚片研究 | 第114-134页 |
| ·材料表面结构表征方法介绍 | 第114-115页 |
| ·金刚石厚片的制备 | 第115-119页 |
| ·等离子体中碳团簇对金刚石厚片的影响 | 第119-123页 |
| ·放电参数对金刚石的影响 | 第123-133页 |
| ·甲烷浓度的影响 | 第123-125页 |
| ·电流密度的影响 | 第125-128页 |
| ·气压的影响 | 第128-129页 |
| ·基底温度的影响 | 第129-131页 |
| ·金刚石厚片的均匀性 | 第131-133页 |
| ·本章小结 | 第133-134页 |
| 第5章 非平衡等离子体中的自组织现象 | 第134-152页 |
| ·研究背景 | 第134-138页 |
| ·高气压直流等离子体中碳树的生长 | 第138-147页 |
| ·等离子体中规则分布的辉纹结构 | 第147-149页 |
| ·表面无定形碳自组织结构的时间演化 | 第149-151页 |
| ·本章小结 | 第151-152页 |
| 第6章 总结和展望 | 第152-156页 |
| ·本论文的主要工作 | 第152-155页 |
| ·下一步可开展的工作 | 第155-156页 |
| 参考文献 | 第156-167页 |
| 致谢 | 第167-168页 |
| 发表的论文及专利 | 第168-170页 |
