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3d过渡金属原子掺杂单层氮化硼、氮化铝的第一性原理计算研究

摘要第4-5页
Abstract第5页
第1章 绪论第8-12页
    1.1 研究背景第8页
    1.2 自旋电子学简介第8-9页
    1.3 材料中的缺陷第9-10页
        1.3.1 点缺陷的种类第10页
        1.3.2 点缺陷对晶体材料的影响第10页
    1.4 论文的章节安排第10-12页
第2章 理论研究方法与计算软件第12-24页
    2.1 第一性原理第12-13页
    2.2 密度泛函理论第13-17页
        2.2.1 量子多体问题第13-14页
        2.2.2 波恩-奥本海默(Born-Oppenheimer)绝热近似第14页
        2.2.3 哈特里-福克(Hartree-Fock)自洽场近似第14-15页
        2.2.4 Hohenberg-Kohn定理第15页
        2.2.5 Kohn-Sham方程第15-16页
        2.2.6 交换相关泛函第16-17页
    2.3 赝势平面波方法第17-18页
    2.4 能带理论第18页
        2.4.1 能带结构第18页
        2.4.2 态密度第18页
    2.5 本文计算软件包简介第18-21页
        2.5.1 VESTA软件第19页
        2.5.2 Origin软件第19-20页
        2.5.3 VASP软件第20-21页
    2.6 硬件支撑第21-23页
    2.7 本章小结第23-24页
第3章 Co、Ni掺杂h-BN单层电子和磁性性质研究第24-36页
    3.1 研究内容及计算方法第24-25页
    3.2 未掺杂h-BN单层的电子和磁性性质第25-27页
    3.3 掺杂h-BN单层的电子和磁性性质第27-35页
        3.3.1 Co原子掺杂h-BN单层的电子和磁性性质第27-32页
        3.3.2 Ni原子掺杂h-BN单层的电子和磁性性质第32-35页
    3.4 本章小结第35-36页
第4章 Cr、Mn掺杂h-AlN单层电子和磁性性质研究第36-46页
    4.1 研究内容及计算方法第36-37页
    4.2 未掺杂h-AlN单层的电子和磁性性质第37-38页
    4.3 掺杂h-AlN单层的电子和磁性性质第38-44页
        4.3.1 Cr原子掺杂h-AlN单层的电子和磁性性质第39-41页
        4.3.2 Mn原子掺杂h-AlN单层的电子和磁性性质第41-44页
    4.4 本章小结第44-46页
结论第46-47页
参考文献第47-51页
攻读硕士学位期间所发表的论文第51-53页
致谢第53页

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