| 摘要 | 第3-5页 |
| abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 超级电容器的简介 | 第12-14页 |
| 1.2.1 超级电容器的特点及应用 | 第12页 |
| 1.2.2 超级电容器的工作原理和结构 | 第12-14页 |
| 1.3 超级电容器电极材料 | 第14-18页 |
| 1.3.1 碳材料 | 第14-16页 |
| 1.3.2 金属氧化物材料 | 第16-17页 |
| 1.3.3 导电聚合物 | 第17-18页 |
| 1.4 MEMS超级电容器的简介及发展现状 | 第18-21页 |
| 1.4.1 体硅工艺技术 | 第18-19页 |
| 1.4.2 表面硅工艺技术 | 第19页 |
| 1.4.3 结构化平面薄膜电极 | 第19-21页 |
| 1.5 课题主要研究内容及研究意义 | 第21-23页 |
| 第二章 实验基本方案 | 第23-31页 |
| 2.1 实验方法及原理 | 第23-27页 |
| 2.2 主要实验药品及材料 | 第27-28页 |
| 2.3 实验步骤 | 第28-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-31页 |
| 第三章 硅基TiO_2纳米管的研究制备及表征 | 第31-38页 |
| 3.1 前言 | 第31页 |
| 3.2 实验部分 | 第31-32页 |
| 3.2.1 硅基底钛薄膜沉积制备 | 第31-32页 |
| 3.2.2 硅基底TiO_2纳米管阵列的制备 | 第32页 |
| 3.3 阳极氧化参数对纳米管形貌的影响 | 第32-36页 |
| 3.3.1 电压对纳米管阵列形貌的影响 | 第33-34页 |
| 3.3.2 电解液组成的影响(F-的浓度) | 第34-35页 |
| 3.3.3 反应时间对纳米管形貌的影响 | 第35-36页 |
| 3.4 结果与讨论 | 第36-37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 TiO_2纳米管薄膜的修饰改性和表征分析 | 第38-43页 |
| 4.1 前言 | 第38页 |
| 4.2 实验部分 | 第38-39页 |
| 4.2.1 电化学还原TiO_2纳米管薄膜 | 第38-39页 |
| 4.2.2 电化学还原后的纳米管薄膜电化学性能表征 | 第39页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第39-42页 |
| 4.3.1 电化学还原最优化条件探索 | 第39-40页 |
| 4.3.2 电化学还原后的电极电化学特性 | 第40-42页 |
| 4.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第五章 Si/r-TNTAs@MnO_2复合电极的制备及表征 | 第43-50页 |
| 5.1 前言 | 第43页 |
| 5.2 实验部分 | 第43-44页 |
| 5.2.1 氧化锰电化学沉积 | 第43-44页 |
| 5.2.2 电化学沉积后的纳米管薄膜电化学性能表征 | 第44页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第44-48页 |
| 5.3.1 氧化锰的电化学沉积参数优化 | 第44页 |
| 5.3.2 Si/r-TNTAs@MnO_2电极形貌表征 | 第44-45页 |
| 5.3.3 Si/r-TNTAs@MnO_2电极电化学特性测试 | 第45-46页 |
| 5.3.4 不同电样品电化学特性表征对比 | 第46-48页 |
| 5.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第六章 高性能的Si/r-TNTAs@WO_3复合电极制备与表征 | 第50-56页 |
| 6.1 前言 | 第50页 |
| 6.2 实验部分 | 第50-51页 |
| 6.2.1 氧化钨的复合薄膜电极制备 | 第50-51页 |
| 6.2.2 氧化钨沉积后的纳米管薄膜表征分析 | 第51页 |
| 6.3 结果与讨论 | 第51-54页 |
| 6.3.1 Si/r-TNTAs@WO_3薄膜电极形貌表征 | 第51页 |
| 6.3.2 Si/r-TNTAs@WO_3薄膜电极不同电解液电化学测试 | 第51-54页 |
| 6.3.3 Si/r-TNTAs@WO_3薄膜电极电容特性及循环稳定性 | 第54页 |
| 6.4 总结 | 第54-56页 |
| 第七章 全文总结与展望 | 第56-59页 |
| 7.1 全文总结 | 第56-57页 |
| 7.2 工作展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69页 |
