| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第12-37页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 过渡金属催化苄基C-H键需氧氧化生成羰基化合物 | 第12-19页 |
| 1.2.1 钴和锰催化剂体系 | 第12-15页 |
| 1.2.2 铜催化剂体系 | 第15-17页 |
| 1.2.3 铁催化剂体系 | 第17-18页 |
| 1.2.4 其它过渡金属催化剂体系 | 第18-19页 |
| 1.3 非过渡金属体系促进苄基C-H键需氧氧化生成C=O键 | 第19-22页 |
| 1.4 光促进苄基C-H键需氧氧化生成C=O键 | 第22-24页 |
| 1.5 苄基C-H键的自动氧化 | 第24-28页 |
| 1.6 酮类化合物经历C-H键需氧氧化并发生C-C键断裂 | 第28-35页 |
| 1.6.1 酮类化合物经历C-C键需氧氧化断裂生成羧酸、醛或酮 | 第28-31页 |
| 1.6.2 酮类化合物经历C-C键需氧氧化断裂生成酯 | 第31-33页 |
| 1.6.3 酮类化合物经历C-C键需氧氧化断裂生成酰胺 | 第33-35页 |
| 1.7 本文主要研究内容和目标 | 第35-37页 |
| 第二章 硝酸催化苄基C-H键需氧氧化生成羰基的研究 | 第37-51页 |
| 2.1 引言 | 第37-38页 |
| 2.2 实验部分 | 第38-42页 |
| 2.2.1 主要分析仪器和试剂 | 第38-39页 |
| 2.2.2 苄基C-H键需氧氧化实验过程 | 第39页 |
| 2.2.3 产物的物性和谱图数据 | 第39-42页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第42-50页 |
| 2.3.1 催化剂用量对反应的影响 | 第42-43页 |
| 2.3.2 温度对反应的影响 | 第43-44页 |
| 2.3.3 溶剂对反应的影响 | 第44-45页 |
| 2.3.4 氧气浓度对反应的影响 | 第45-46页 |
| 2.3.5 3,4-二氢-1H-2-苯并吡喃类化合物中苄基C-H键的需氧氧化 | 第46-47页 |
| 2.3.6 氧杂蒽和芴类化合物中苄基C-H键的需氧氧化 | 第47-48页 |
| 2.3.7 HNO_3催化苄基C-H键需氧氧化机理的研究 | 第48-50页 |
| 2.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 第三章 氮氧物种催化苄基醚C-H键需氧氧化和氰化的研究 | 第51-65页 |
| 3.1 引言 | 第51页 |
| 3.2 实验部分 | 第51-55页 |
| 3.2.1 主要分析仪器和试剂 | 第51-52页 |
| 3.2.2 苄基醚向芳腈转化实验过程 | 第52-53页 |
| 3.2.3 产物的物性和谱图数据 | 第53-55页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第55-64页 |
| 3.3.1 催化剂种类对反应的影响 | 第55-56页 |
| 3.3.2 温度对反应的影响 | 第56-57页 |
| 3.3.3 氮源对反应的影响 | 第57-58页 |
| 3.3.4 溶剂对反应的影响 | 第58页 |
| 3.3.5 氧气压力对反应的影响 | 第58-59页 |
| 3.3.6 苯环上的取代基对反应的影响 | 第59-60页 |
| 3.3.7 一系列芳基醚的需氧氰化反应 | 第60-61页 |
| 3.3.8 反应机理的研究 | 第61-64页 |
| 3.4 本章小结 | 第64-65页 |
| 第四章 苄基C-H键自动需氧氧化生成羰基的研究 | 第65-85页 |
| 4.1 引言 | 第65-66页 |
| 4.2 实验部分 | 第66-74页 |
| 4.2.1 主要分析仪器和试剂 | 第66-67页 |
| 4.2.2 苄基C-H键自动需氧氧化生成C=O键实验过程 | 第67-68页 |
| 4.2.3 ~(18)O标记实验过程 | 第68页 |
| 4.2.4 自由基捕捉剂对反应影响的实验过程 | 第68页 |
| 4.2.5 分子模拟计算细节 | 第68-69页 |
| 4.2.6 产物的物性和谱图数据 | 第69-74页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第74-83页 |
| 4.3.1 反应条件的优化 | 第74-76页 |
| 4.3.2 一系列二苯基甲烷中苄基C-H键的自动需氧氧化 | 第76-77页 |
| 4.3.3 9,10-二氢蒽、氧杂蒽、芴中苄基C-H键的自动需氧氧化 | 第77-79页 |
| 4.3.4 苄基烷基醚及其衍生物中苄基C-H键的自动需氧氧化 | 第79-80页 |
| 4.3.5 反应中氧化剂和氧源的确定 | 第80-81页 |
| 4.3.6 反应机理的研究 | 第81-83页 |
| 4.4 本章小结 | 第83-85页 |
| 第五章 酮类化合物C-H键自动需氧氧化/C-C键断裂的研究 | 第85-96页 |
| 5.1 引言 | 第85-86页 |
| 5.2 实验部分 | 第86-88页 |
| 5.2.1 主要分析仪器和试剂 | 第86-87页 |
| 5.2.2 酮类化合物C-H键自动需氧氧化/C-C键断裂实验过程 | 第87-88页 |
| 5.2.3 ~(18)O标记实验过程 | 第88页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第88-94页 |
| 5.3.1 溶剂对反应的影响 | 第88-89页 |
| 5.3.2 温度对反应的影响 | 第89页 |
| 5.3.3 氧气压力对反应的影响 | 第89-90页 |
| 5.3.4 带有不同取代基苯丙酮的自动需氧氧化/C-C键断裂 | 第90-91页 |
| 5.3.5 其它类型底物的自动需氧氧化/C-C键断裂 | 第91-92页 |
| 5.3.6 反应机理的研究 | 第92-94页 |
| 5.4 本章小结 | 第94-96页 |
| 第六章 结论与展望 | 第96-99页 |
| 6.1 结论 | 第96-97页 |
| 6.2 展望 | 第97-99页 |
| 参考文献 | 第99-114页 |
| 缩略语词汇表 | 第114-115页 |
| 附录1 第二章中产物的谱图 | 第115-130页 |
| 附录2 第三章中产物的谱图 | 第130-144页 |
| 附录3 第四章中产物的谱图 | 第144-171页 |
| 附录4 第五章中产物的谱图 | 第171-175页 |
| 在学期间的研究成果 | 第175-176页 |
| 致谢 | 第176页 |
