| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 研究的背景和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 噻吩加氢脱硫国内外研究现状 | 第10-14页 |
| 1.2.1 噻吩加氢脱硫反应机理的研究现状 | 第10-12页 |
| 1.2.2 噻吩加氢脱硫催化剂的研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3 研究内容及技术路线 | 第14-15页 |
| 1.3.1 研究内容 | 第14-15页 |
| 1.3.2 技术路线 | 第15页 |
| 1.4 论文创新点 | 第15-17页 |
| 第二章 Ni_2P(001)表面噻吩HDS的理论基础 | 第17-27页 |
| 2.1 噻吩和Ni_2P的特性 | 第17页 |
| 2.2 MS软件理论基础 | 第17-25页 |
| 2.2.1 量子力学的发展 | 第17-18页 |
| 2.2.2 密度泛函理论 | 第18-22页 |
| 2.2.3 态密度分析 | 第22-23页 |
| 2.2.4 Materials Studio软件介绍 | 第23-25页 |
| 2.3 吸附 | 第25-26页 |
| 2.4 过渡态 | 第26-27页 |
| 第三章 噻吩在Ni_2P(001)表面的吸附 | 第27-39页 |
| 3.1 引言 | 第27页 |
| 3.2 计算方法 | 第27-28页 |
| 3.3 模型分子的构建及优化 | 第28-32页 |
| 3.3.1 模型分子的建立 | 第28-30页 |
| 3.3.2 Ni_2P模型吸附面的选择 | 第30-32页 |
| 3.4 噻吩在Ni_2P(001)表面的吸附 | 第32-35页 |
| 3.5 吸附成键特点分析 | 第35-38页 |
| 3.5.1 电荷分布 | 第36页 |
| 3.5.2 差分电荷密度 | 第36-37页 |
| 3.5.3 态密度分析 | 第37-38页 |
| 3.6 小结 | 第38-39页 |
| 第四章 噻吩在Ni_2P表面HDS反应 | 第39-52页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 反应途径 | 第39-41页 |
| 4.3 Ni_2P(001)表面噻吩的加氢脱硫反应 | 第41-50页 |
| 4.3.1 直接加氢脱硫 | 第42-43页 |
| 4.3.2 间接加氢脱硫 | 第43-49页 |
| 4.3.3 Ni_2P(001)面上噻吩加氢脱硫机理总结 | 第49-50页 |
| 4.4 小结 | 第50-52页 |
| 第五章 噻吩在Al_2O_3负载的Ni_2P(001)表面HDS机理研究 | 第52-57页 |
| 5.1 引言 | 第52页 |
| 5.2 噻吩在Al_2O_3负载的Ni_2P(001)表面的吸附 | 第52-53页 |
| 5.3 噻吩在Al_2O_3负载的Ni_2P(001)表面的加氢脱硫反应 | 第53-56页 |
| 5.4 小结 | 第56-57页 |
| 结论与建议 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 攻读硕士学位期间取得学术成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
