摘要 | 第7-8页 |
ABSTRACT | 第8页 |
第一章 绪论 | 第9-30页 |
1.1 研究背景 | 第9-10页 |
1.2 半导体TiO_2材料的优缺点 | 第10页 |
1.3 半导体TiO_2光催化原理 | 第10-12页 |
1.4 TiO_2光催化材料的制备方法 | 第12-19页 |
1.4.1 溶胶-凝胶法 | 第12-14页 |
1.4.2 水热法 | 第14-16页 |
1.4.3 微波辅助法 | 第16-17页 |
1.4.4 液相沉淀法 | 第17页 |
1.4.5 反向胶束法 | 第17-18页 |
1.4.6 静电纺丝法 | 第18-19页 |
1.5 影响TiO_2光催化材料性能的因素 | 第19-23页 |
1.5.1 晶型结构的影响 | 第19页 |
1.5.2 晶体结构的影响 | 第19-21页 |
1.5.3 形貌结构的影响 | 第21-22页 |
1.5.4 暴露{001}高能面的影响 | 第22-23页 |
1.5.5 温度和光强的影响 | 第23页 |
1.6 TiO_2光催化材料的改性 | 第23-29页 |
1.6.1 离子掺杂 | 第24-26页 |
1.6.2 表面贵金属沉积 | 第26-27页 |
1.6.3 半导体复合 | 第27-28页 |
1.6.4 染料敏化 | 第28-29页 |
1.7 本论文选题依据和研究内容 | 第29-30页 |
第二章 碳掺杂/包裹空盒状二氧化钛的制备、表征及光催化性能研究 | 第30-47页 |
2.1 引言 | 第30页 |
2.2 实验试剂、仪器和催化剂的制备 | 第30-32页 |
2.2.1 实验试剂及仪器 | 第30-31页 |
2.2.2 前驱体TiOF_2的制备 | 第31页 |
2.2.3 C掺杂/包覆空盒状TiO_2的制备 | 第31-32页 |
2.3 结果与讨论 | 第32-46页 |
2.3.1 C掺杂/包覆空盒状TiO_2的表征 | 第32-40页 |
2.3.2 光催化性能研究 | 第40-46页 |
2.4 本章小结 | 第46-47页 |
第三章 N,S表面修饰空盒状TiO_2的制备及光光催化性能研究 | 第47-63页 |
3.1 引言 | 第47页 |
3.2 主要试剂、仪器及催化剂的制备 | 第47-48页 |
3.2.1 实验主要试剂和仪器 | 第47页 |
3.2.2 前驱体TiOF_2的制备 | 第47-48页 |
3.2.3 N,S共掺杂空盒状TiO_2的制备 | 第48页 |
3.3 结果与讨论 | 第48-62页 |
3.3.1 N,S共掺杂空盒状TiO_2的表征 | 第48-57页 |
3.3.2 光催化性能研究 | 第57-62页 |
3.4 本章小结 | 第62-63页 |
第四章 Ti~(3+)自掺杂空盒状二氧化钛的制备及可见光光催化性能研究 | 第63-76页 |
4.1 引言 | 第63页 |
4.2 主要试剂、仪器及催化剂的制备 | 第63-64页 |
4.2.1 实验主要试剂和仪器 | 第63页 |
4.2.2 前驱体TiOF_2的制备 | 第63-64页 |
4.2.3 Ti~(3+)自掺杂空盒状二氧化钛(Ti~(3+)/TiO_2)的制备 | 第64页 |
4.3 结果与讨论 | 第64-75页 |
4.3.1 Ti~(3+)/TiO_2的表征 | 第64-71页 |
4.3.2 光催化性能研究 | 第71-75页 |
4.4 本章小结 | 第75-76页 |
全文总结 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-86页 |
致谢 | 第86-87页 |
附录攻读学位期间所发表的论文和成果 | 第87页 |