无砷TFT-LCD基板玻璃窑炉数值模拟研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 TFT-LCD基板玻璃窑炉特点 | 第8-10页 |
| 1.3 玻璃窑炉模拟研究进展 | 第10-12页 |
| 1.4 课题研究内容与意义 | 第12-14页 |
| 第2章 基板玻璃窑炉数值模拟基础 | 第14-26页 |
| 2.1 基板玻璃生产线概述 | 第14-15页 |
| 2.2 基板玻璃窑炉数值模拟原理 | 第15-22页 |
| 2.2.1 火焰窑数值模拟 | 第15-17页 |
| 2.2.2 玻璃液中电场的数值模拟技术 | 第17-20页 |
| 2.2.3 配合料和玻璃液简化 | 第20-22页 |
| 2.3 基板玻璃窑炉数值模拟计算系统 | 第22-24页 |
| 2.4 本章小结 | 第24-26页 |
| 第3章 含砷基板玻璃窑炉数值模拟 | 第26-38页 |
| 3.1 含砷基板玻璃窑炉模拟计算 | 第26-30页 |
| 3.1.1 熔窑前处理 | 第26-27页 |
| 3.1.2 计算设置 | 第27-30页 |
| 3.2 模拟结果分析 | 第30-36页 |
| 3.2.1 熔化池火焰空间模拟结果 | 第30-31页 |
| 3.2.2 澄清池火焰空间模拟结果 | 第31-32页 |
| 3.2.3 玻璃液流动空间模拟结果 | 第32-34页 |
| 3.2.4 含砷基板玻璃窑炉整体特征分析 | 第34-36页 |
| 3.3 本章小结 | 第36-38页 |
| 第4章 无砷基板玻璃窑炉数值模拟研究 | 第38-49页 |
| 4.1 无砷基板玻璃窑炉模拟计算 | 第38-41页 |
| 4.1.1 无砷窑炉结构及网格情况 | 第38-39页 |
| 4.1.2 计算设置 | 第39-41页 |
| 4.2 模拟结果 | 第41-48页 |
| 4.2.1 过渡阶段火焰空间模拟结果 | 第41-43页 |
| 4.2.2 稳定期间火焰空间模拟结果 | 第43-44页 |
| 4.2.3 稳定期间玻璃液空间模拟结果 | 第44-45页 |
| 4.2.4 无砷基板玻璃窑炉整体特征分析 | 第45-46页 |
| 4.2.5 数值模拟在无砷窑炉生产中的应用 | 第46-48页 |
| 4.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文及科研成果 | 第55-57页 |
| 致谢 | 第57-59页 |
| 个人简历 | 第59页 |
