| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 软磁材料的发展 | 第10-12页 |
| 1.3 高频软磁薄膜 | 第12-13页 |
| 1.4 自旋转移矩磁性随机存储器 | 第13-14页 |
| 1.5 本文的主要研究背景及内容 | 第14-18页 |
| 参考文献 | 第18-22页 |
| 第二章 理论基础 | 第22-30页 |
| 2.1 磁性材料的基本参数 | 第22-23页 |
| 2.2 磁各向异性原理 | 第23-26页 |
| 2.2.1 磁晶各向异性 | 第23-24页 |
| 2.2.2 形状各向异性 | 第24页 |
| 2.2.3 应力各向异性 | 第24-25页 |
| 2.2.4 表面和界面各向异性 | 第25-26页 |
| 2.3 软磁薄膜的高频进动机制 | 第26-29页 |
| 参考文献 | 第29-30页 |
| 第三章 薄膜的制备及表征 | 第30-41页 |
| 3.1 薄膜制备 | 第30-31页 |
| 3.1.1 磁控溅射原理 | 第30-31页 |
| 3.1.2 射频磁控溅射 | 第31页 |
| 3.2 样品制备与表征 | 第31-40页 |
| 3.2.1 X射线衍射仪 | 第31-32页 |
| 3.2.2 原子力显微镜与磁力显微镜 | 第32-33页 |
| 3.2.3 扫描电子显微镜 | 第33页 |
| 3.2.4 振动样品磁强计 | 第33-34页 |
| 3.2.5 矢量网络分析仪 | 第34-36页 |
| 3.2.6 电子自旋共振谱仪 | 第36-38页 |
| 3.2.7 磁光克尔显微镜 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第四章 粗糙度对Fe基软磁薄膜的高频特性研究 | 第41-55页 |
| 4.1 Si衬底粗糙度对CoFeB薄膜的高频特性研究 | 第41-46页 |
| 4.1.1 Si衬底表面腐蚀及CoFeB薄膜样品的制备 | 第41-42页 |
| 4.1.2 不同粗糙度的Si衬底与CoFeB薄膜样品的形貌表征 | 第42-43页 |
| 4.1.3 不同粗糙度的Si衬底对CoFeB薄膜样品静态磁性能的调控 | 第43-44页 |
| 4.1.4 不同粗糙度的Si衬底对CoFeB薄膜样品动态磁性能的调控 | 第44-46页 |
| 4.1.5 小结 | 第46页 |
| 4.2 Al层粗糙度对FeNi薄膜的高频特性研究 | 第46-54页 |
| 4.2.1 样品制备 | 第46-47页 |
| 4.2.2 多层膜的X射线衍射分析 | 第47页 |
| 4.2.3 不同厚度的Al层表面形貌及粗糙度表征 | 第47-48页 |
| 4.2.4 不同厚度的Al层对FeNi薄膜样品的静态磁特性的调控 | 第48-49页 |
| 4.2.5 不同厚度的Al层对FeNi薄膜样品的动态磁特性的调控 | 第49-53页 |
| 4.2.6 小结 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第五章 FeCo/Pt多周期薄膜的垂直各向异性的研究 | 第55-70页 |
| 5.1 FeCo层厚度及周期数对样品垂直各向异性的影响 | 第55-59页 |
| 5.1.1 样品制备 | 第55页 |
| 5.1.2 多周期薄膜的磁性能表征 | 第55-59页 |
| 5.2 周期数对薄膜磁畴的影响 | 第59-61页 |
| 5.3 多周期薄膜畴壁运动的观测 | 第61-63页 |
| 5.4 种子层种类及其厚度对多周期薄膜磁性能的影响 | 第63-64页 |
| 5.5 真空热处理对多周期薄膜磁性能的影响 | 第64-67页 |
| 5.6 本章小结 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-70页 |
| 第六章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 在学期间研究成果 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
