| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·ITO 薄膜的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·ITO 薄膜的半导化机理 | 第11-12页 |
| ·ITO 薄膜的应用现状 | 第12-17页 |
| ·ITO 薄膜在显示器方面的应用 | 第12-15页 |
| ·ITO 薄膜在太阳能电池方面的应用 | 第15-16页 |
| ·ITO 薄膜在其它方面的应用 | 第16-17页 |
| ·纳米ITO 薄膜的制备方法 | 第17-21页 |
| ·溅射法 | 第17-20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20页 |
| ·喷雾热分解法 | 第20页 |
| ·溶胶一凝胶法 | 第20-21页 |
| ·真空蒸镀法 | 第21页 |
| ·课题的意义及内容 | 第21-22页 |
| ·课题的提出 | 第21页 |
| ·课题研究的主要内容 | 第21-22页 |
| 本章小结 | 第22-23页 |
| 第二章 磁控溅射系统简介及ITO 薄膜的制备 | 第23-33页 |
| ·引言 | 第23页 |
| ·磁控溅射系统简介 | 第23-28页 |
| ·磁控溅射仪的主要组成 | 第23-25页 |
| ·磁控溅射仪的操作步骤及技术特点 | 第25-27页 |
| ·直流脉冲电源工作原理及特点 | 第27-28页 |
| ·ITO 薄膜的制备 | 第28-30页 |
| ·制备ITO 薄膜的参数简介 | 第28-29页 |
| ·ITO 薄膜制备工艺流程 | 第29-30页 |
| ·ITO 薄膜的性能表征 | 第30-32页 |
| ·ITO 薄膜厚度表征 | 第30页 |
| ·ITO 薄膜光学性能表征 | 第30-31页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第31-32页 |
| 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 实验参数对ITO 薄膜性能的影响 | 第33-47页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·O_2 流量对ITO 薄膜性能的影响 | 第33-39页 |
| ·实验 | 第33页 |
| ·O_2 流量对ITO 薄膜沉积速率的影响 | 第33-34页 |
| ·O_2 流量对ITO 薄膜方块电阻的影响 | 第34-35页 |
| ·O_2 流量对ITO 薄膜可见光平均透过率的影响 | 第35-36页 |
| ·O_2 流量对ITO 薄膜成份的影响 | 第36-39页 |
| ·溅射功率对ITO 薄膜性能的影响 | 第39-42页 |
| ·实验 | 第39-40页 |
| ·溅射功率对ITO 薄膜沉积速率的影响 | 第40-41页 |
| ·溅射功率对ITO 薄膜方块电阻的影响 | 第41页 |
| ·溅射功率对ITO 薄膜可见光平均透过率的影响 | 第41-42页 |
| ·沉积气压对ITO 薄膜性能的影响 | 第42-45页 |
| ·实验 | 第42-43页 |
| ·沉积气压对ITO 薄膜沉积速率的影响 | 第43页 |
| ·沉积气压对ITO 薄膜方块电阻的影响 | 第43-44页 |
| ·沉积气压对ITO 薄膜可见光平均透过率的影响、 | 第44-45页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 退火对ITO 薄膜方块电阻的影响 | 第47-56页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·实验 | 第47-48页 |
| ·低O_2 状态下制备ITO 薄膜的退火分析 | 第48-52页 |
| ·富O_2 状态下制备ITO 薄膜的退火分析 | 第52-55页 |
| 本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |