红外仿真系统短中波能量调节滤波器的研制
| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第7-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.1 红外仿真系统的发展现状 | 第10-12页 |
| 1.2.2 红外探测器的发展现状 | 第12页 |
| 1.2.3 短中波红外薄膜的发展现状 | 第12-13页 |
| 1.3 论文研究的主要目的和主要内容 | 第13-15页 |
| 第二章 光学薄膜理论 | 第15-20页 |
| 2.1 光学薄膜基本理论 | 第15-18页 |
| 2.1.1 单层介质膜的特性计算 | 第15-16页 |
| 2.1.2 多层介质膜的特性计算 | 第16-18页 |
| 2.2 有效界面法 | 第18-20页 |
| 第三章 能量调节滤波器的设计 | 第20-31页 |
| 3.1 基底及薄膜材料的研究 | 第20-28页 |
| 3.1.1 材料的透明光谱范围 | 第20-21页 |
| 3.1.2 材料的透射率和折射率 | 第21-22页 |
| 3.1.3 材料的机械和化学性能 | 第22-23页 |
| 3.1.4 材料折射率的计算 | 第23-27页 |
| 3.1.5 材料的吸收特性 | 第27-28页 |
| 3.2 能量调节滤光片设计方案 | 第28页 |
| 3.3 宽带通滤光片设计方案 | 第28-31页 |
| 3.3.1 前表面膜系设计 | 第28-29页 |
| 3.3.2 后表面膜系设计 | 第29-30页 |
| 3.3.3 双面膜系设计 | 第30-31页 |
| 第四章 滤光片的制备 | 第31-39页 |
| 4.1 镀膜设备简介 | 第31-32页 |
| 4.2 薄膜沉积方法研究 | 第32-35页 |
| 4.2.1 电阻蒸发 | 第32-33页 |
| 4.2.2 电子束蒸发 | 第33-34页 |
| 4.2.3 离子辅助沉积技术 | 第34-35页 |
| 4.3 薄膜制备过程 | 第35-39页 |
| 第五章 测试结果与分析 | 第39-44页 |
| 5.1 光谱性能测试与分析 | 第39-43页 |
| 5.2 耐环境测试 | 第43-44页 |
| 第六章 总结 | 第44-46页 |
| 6.1 主要工作总结 | 第44页 |
| 6.2 创新点说明 | 第44-45页 |
| 6.3 不足与展望 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 附录 硕士期间发表的成果及参与的项目 | 第50页 |
