| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| 1.1 引言 | 第8-9页 |
| 1.2 逾渗模型 | 第9-13页 |
| 1.2.1 经典逾渗理论 | 第10-11页 |
| 1.2.2 逾渗阈值的确定 | 第11-13页 |
| 1.3 巨霍尔效应 | 第13-20页 |
| 1.3.1 磁性材料的巨霍尔效应 | 第14-15页 |
| 1.3.2 反常霍尔效应的标度理论 | 第15-16页 |
| 1.3.3 母体为 Ge 颗粒系统的霍尔现象 | 第16-17页 |
| 1.3.4 颗粒尺寸对巨霍尔效应的影响 | 第17-18页 |
| 1.3.5 非磁性材料的巨霍尔效应 | 第18-20页 |
| 1.4 量子逾渗理论 | 第20-22页 |
| 1.4.1 量子逾渗模型 | 第20-22页 |
| 1.4.2 霍尔电阻率理论 | 第22页 |
| 1.5 本论文的主要工作 | 第22-24页 |
| 第二章 样品的制备与表征 | 第24-32页 |
| 2.1 样品的制备 | 第24-27页 |
| 2.1.1 射频磁控溅射系统基本原理 | 第24-25页 |
| 2.1.2 靶材的制备过程 | 第25-26页 |
| 2.1.3 薄膜的溅射条件 | 第26-27页 |
| 2.2 样品的微观结构表征 | 第27-29页 |
| 2.2.1 高分辨率透射电子显微镜(HRTEM) | 第27-28页 |
| 2.2.2 选区电子衍射(SAED) | 第28-29页 |
| 2.2.3 X 射线光电子能谱(XPS) | 第29页 |
| 2.3 电输运性质测量 | 第29-32页 |
| 第三章 Mo-Sn0_2 的微观结构和电输运性质研究 | 第32-50页 |
| 3.1 金属体积分数的确定 | 第32-34页 |
| 3.2 Mo-SnO_2 的微观结构表征 | 第34-38页 |
| 3.2.1 HRTEM 分析结果及讨论 | 第34-36页 |
| 3.2.2 SAED 分析结果及讨论 | 第36页 |
| 3.2.3 XPS 分析结果及讨论 | 第36-38页 |
| 3.3 Mo-SnO_2 的电输运性质 | 第38-48页 |
| 3.3.1 电阻率的测试结果及分析 | 第38-40页 |
| 3.3.2 x_c 的确定 | 第40-41页 |
| 3.3.3 霍尔效应的测试结果及分析 | 第41-43页 |
| 3.3.4 磁电阻的测试结果及分析 | 第43-46页 |
| 3.3.5 实验结果的分析及讨论 | 第46-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 Al-AlN 的微观结构和电输运性质研究 | 第50-59页 |
| 4.1 Al-AlN 的微观结构表征 | 第50-53页 |
| 4.1.1 HRTEM 分析结果及讨论 | 第50-51页 |
| 4.1.2 SAED 分析结果及讨论 | 第51-53页 |
| 4.2 Al-AlN 的电输运性质 | 第53-57页 |
| 4.2.1 电阻率的测量结果及分析 | 第53-55页 |
| 4.2.2 磁电阻的测量结果及分析 | 第55-56页 |
| 4.2.3 霍尔效应的测量结果及分析 | 第56-57页 |
| 4.3 本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 硕士在读期间已发表和已完成的论文 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |