用于超导纳米线单光子探测器的NbN薄膜及纳米线的均匀性分析
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 单光子探测器 | 第12-14页 |
| 1.1.1 SNSPD工作原理 | 第12-13页 |
| 1.1.2 SNSPD研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2 超导薄膜制备与表征 | 第14-20页 |
| 1.2.1 常用薄膜制备技术 | 第14-16页 |
| 1.2.2 薄膜超导性能表征 | 第16-18页 |
| 1.2.3 薄膜成分表征 | 第18页 |
| 1.2.4 薄膜形貌和结构表征 | 第18-20页 |
| 1.3 超导薄膜及纳米线均匀性 | 第20-21页 |
| 1.3.1 超导薄膜均匀性研究现状 | 第21页 |
| 1.3.2 超导纳米线均匀性研究现状 | 第21页 |
| 1.4 本文的主要研究内容和论文框架 | 第21-23页 |
| 第二章 NbN薄膜的制备与优化 | 第23-34页 |
| 2.1 NbN薄膜的制备方法 | 第23-28页 |
| 2.1.1 NbN薄膜的性能及应用 | 第23-24页 |
| 2.1.2 磁控溅射系统 | 第24-27页 |
| 2.1.3 薄膜制备流程 | 第27-28页 |
| 2.2 NbN薄膜的制备与优化 | 第28-33页 |
| 2.2.1 常温NbN薄膜的工艺优化 | 第28-31页 |
| 2.2.2 常温薄膜的制备参数 | 第31-32页 |
| 2.2.3 加热NbN薄膜的工艺优化 | 第32-33页 |
| 2.2.4 加热薄膜的制备参数 | 第33页 |
| 2.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 NbN薄膜的表征 | 第34-46页 |
| 3.1 常温制备的NbN薄膜 | 第34-39页 |
| 3.1.1 成分分析 | 第34页 |
| 3.1.2 结构表征 | 第34-36页 |
| 3.1.3 超导性能表征 | 第36页 |
| 3.1.4 大面积制备均匀性表征 | 第36-39页 |
| 3.2 加热制备的NbN薄膜 | 第39-44页 |
| 3.2.1 成分分析 | 第39-41页 |
| 3.2.2 结构表征 | 第41-42页 |
| 3.2.3 性能表征 | 第42-44页 |
| 3.2.4 大面积制备均匀性表征 | 第44页 |
| 3.3 本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 基于元素分布的均匀性分析 | 第46-62页 |
| 4.1 基于元素分布的均匀性分析方法 | 第46页 |
| 4.2 NbN薄膜均匀性分析 | 第46-52页 |
| 4.2.1 NbN薄膜样品制备 | 第46-47页 |
| 4.2.2 NbN薄膜均匀性分析 | 第47-52页 |
| 4.3 NbN超导纳米线均匀性分析 | 第52-60页 |
| 4.3.1 NbN超导纳米线样品制备 | 第52-53页 |
| 4.3.2 NbN超导纳米线均匀性分析 | 第53-60页 |
| 4.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 总结与展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-67页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-70页 |
