摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 钛合金及其特性 | 第11-12页 |
1.3 激光增材制造钛合金技术 | 第12-16页 |
1.3.1 激光增材制造技术分类 | 第12-13页 |
1.3.2 SLM成型技术的优缺点 | 第13-14页 |
1.3.3 SLM成型钛合金工艺及医疗应用研究现状 | 第14-16页 |
1.4 SLM成型医用钛合金微弧氧化技术的提出 | 第16-18页 |
1.4.1 SLM成型医用钛合金表面改性技术的必要性 | 第16页 |
1.4.2 SLM成型医用钛合金的表面改性技术研究现状 | 第16-17页 |
1.4.3 微弧氧化技术原理及优势 | 第17-18页 |
1.5 传统制造钛合金微弧氧化技术研究现状 | 第18-20页 |
1.5.1 微弧氧化的发展 | 第18页 |
1.5.2 微弧氧化技术研究现状 | 第18-20页 |
1.6 研究内容和技术路线 | 第20-23页 |
1.6.1 研究内容 | 第20-21页 |
1.6.2 技术路线 | 第21-23页 |
第2章 试验材料与方法 | 第23-31页 |
2.1 试验材料 | 第23-24页 |
2.1.1 基板与粉末材料 | 第23页 |
2.1.2 试验主要试剂 | 第23-24页 |
2.2 SLM成型 | 第24-26页 |
2.2.1 SLM成型设备 | 第24-25页 |
2.2.2 SLM成型工艺 | 第25-26页 |
2.3 微弧氧化 | 第26-28页 |
2.3.1 微弧氧化设备 | 第26页 |
2.3.2 微弧氧化工艺 | 第26-28页 |
2.4 试样及其氧化膜特征分析 | 第28页 |
2.4.1 SLM成型试样分析 | 第28页 |
2.4.2 微弧氧化膜层分析 | 第28页 |
2.5 试样及其氧化膜性能测试 | 第28-31页 |
2.5.1 电化学测试 | 第28页 |
2.5.2 结合力测试 | 第28-29页 |
2.5.3 生物活性检测 | 第29-31页 |
第3章 激光选区熔化成型TC4合金特征研究 | 第31-39页 |
3.1 SLM成型工艺 | 第31-33页 |
3.2 SLM成型试样的显微组织和相组成 | 第33-35页 |
3.3 成型试样的性能特征分析 | 第35-38页 |
3.3.1 耐蚀性 | 第35-36页 |
3.3.2 生物活性 | 第36-38页 |
3.4 本章小结 | 第38-39页 |
第4章 SLM成型TC4合金的微弧氧化工艺研究 | 第39-51页 |
4.1 电解液的选择 | 第39-40页 |
4.2 电工艺参数对微弧氧化的影响 | 第40-45页 |
4.2.1 电流密度对微弧氧化膜层的影响 | 第40-41页 |
4.2.2 脉冲频率对微弧氧化膜层的影响 | 第41-43页 |
4.2.3 脉冲占空比对微弧氧化膜层的影响 | 第43-45页 |
4.3 氧化时间对微弧氧化膜层的影响 | 第45-49页 |
4.3.1 氧化时间对微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第45页 |
4.3.2 氧化时间对微弧氧化膜层元素含量的影响 | 第45-46页 |
4.3.3 氧化时间对微弧氧化膜厚度的影响 | 第46页 |
4.3.4 氧化时间对微弧氧化膜层相组成的影响 | 第46-48页 |
4.3.5 氧化时间对膜层结合力的影响 | 第48-49页 |
4.4 本章小结 | 第49-51页 |
第5章 SLM成型TC4合金的微弧氧化成膜特征与性能研究 | 第51-77页 |
5.1 SLM成型与传统成型TC4合金的微弧氧化对比研究 | 第51-58页 |
5.1.1 电压-时间响应曲线对比 | 第51-52页 |
5.1.2 两种成型合金氧化膜微观形貌分析 | 第52-54页 |
5.1.3 两种成型合金氧化膜厚度比较 | 第54页 |
5.1.4 两种成型合金氧化膜的成分和相结构对比分析 | 第54-58页 |
5.2 非平衡相组织对微弧氧化成膜的影响 | 第58-63页 |
5.3 SLM成型TC4合金的微弧氧化理论模型 | 第63-66页 |
5.4 SLM成型TC4合金的微弧氧化膜层性能研究 | 第66-75页 |
5.4.1 耐蚀性 | 第66-70页 |
5.4.2 生物活性 | 第70-75页 |
5.5 本章小结 | 第75-77页 |
第6章 结论与展望 | 第77-79页 |
6.1 结论 | 第77页 |
6.2 创新点 | 第77-78页 |
6.3 展望 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-87页 |
致谢 | 第87-89页 |
攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第89页 |