| 致谢 | 第5-6页 |
| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 石墨烯发展简史 | 第10-13页 |
| 1.2 石墨烯的应用前景 | 第13-14页 |
| 1.3 本论文的研究内容 | 第14-15页 |
| 1.4 本章小结 | 第15-16页 |
| 第二章 石墨烯的基本性质 | 第16-20页 |
| 2.1 电学性质 | 第16-18页 |
| 2.1.1 石墨烯的晶体结构 | 第16-17页 |
| 2.1.2 紧束缚近似模型 | 第17-18页 |
| 2.2 力学性质 | 第18-19页 |
| 2.3 热学性质 | 第19页 |
| 2.4 其他性质 | 第19页 |
| 2.5 本章结论 | 第19-20页 |
| 第三章 石墨烯的制备、转移及表征方法 | 第20-27页 |
| 3.1 石墨烯的制备法 | 第20-23页 |
| 3.1.1 机械剥离 | 第20页 |
| 3.1.2 热分解SiC | 第20页 |
| 3.1.3 化学气相沉积 | 第20-22页 |
| 3.1.4 切割碳纳米管 | 第22-23页 |
| 3.1.5 氧化石墨还原 | 第23页 |
| 3.2 石墨烯的表征 | 第23-25页 |
| 3.2.1 拉曼光谱仪 | 第23-24页 |
| 3.2.2 光学显微镜 | 第24页 |
| 3.2.3 扫描电子显微镜 | 第24-25页 |
| 3.2.4 原子力显微镜 | 第25页 |
| 3.3 石墨烯的转移 | 第25-26页 |
| 3.4 本章总结 | 第26-27页 |
| 第四章 图形化Cu薄膜上CVD生长石墨烯 | 第27-39页 |
| 4.1 引言 | 第27页 |
| 4.2 生长衬底的准备 | 第27-29页 |
| 4.2.1 溅射Cu | 第27-28页 |
| 4.2.2 光刻 | 第28页 |
| 4.2.3 湿法刻蚀 | 第28-29页 |
| 4.3 CVD生长石墨烯 | 第29-35页 |
| 4.3.1 实验探索及结果讨论 | 第29-32页 |
| 4.3.2 最优实验条件 | 第32-35页 |
| 4.4 基于导电AFM的金属-石墨烯导电率测试 | 第35-38页 |
| 4.4.1 导电AFM超高分辨率导电显微技术 | 第36-37页 |
| 4.4.2 Cu薄膜上生长和转移的石墨烯电导率对比 | 第37-38页 |
| 4.5 本章结论 | 第38-39页 |
| 第五章 结论 | 第39-41页 |
| 参考文献 | 第41-45页 |
| 作者简历及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第45-47页 |
| 学位论文数据集 | 第47页 |