| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-15页 |
| 1.2.1 光学薄膜表界面粗糙度的成形机理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 薄膜界面粗糙度和光散射特性 | 第13-15页 |
| 1.2.3 多层光学薄膜的表面光散射和减散射特性研究 | 第15页 |
| 1.3 课题主要工作 | 第15-17页 |
| 1.3.1 主要研究内容及重点 | 第15-16页 |
| 1.3.2 课题研究方案 | 第16-17页 |
| 1.3.3 论文章节安排 | 第17页 |
| 1.4 小结 | 第17-18页 |
| 2 单层薄膜散射及减散射特性 | 第18-38页 |
| 2.1 散射基本理论 | 第18-22页 |
| 2.1.1 光学表面形貌的数学描述 | 第18-20页 |
| 2.1.2 单个光学表面的散射理论 | 第20-22页 |
| 2.2 具有微粗糙度的单层膜散射 | 第22-27页 |
| 2.3 单层膜界面粗糙度相关特性 | 第27-33页 |
| 2.3.1 界面完全非相关模型 | 第27-28页 |
| 2.3.2 界面完全相关模型 | 第28页 |
| 2.3.3 单层薄膜散射特性及算例分析 | 第28-33页 |
| 2.4 单层薄实现膜减散射条件 | 第33-37页 |
| 2.5 结论 | 第37-38页 |
| 3 单层光学薄膜表面粗糙度调控 | 第38-56页 |
| 3.1 薄膜制备相关技术及检测技术 | 第38-44页 |
| 3.1.1 常见光学薄膜的制备方法 | 第38-40页 |
| 3.1.2 主要测试分析设备 | 第40-41页 |
| 3.1.3 薄膜材料及基底分类 | 第41-42页 |
| 3.1.4 薄膜制备工艺及关键工艺参数确定 | 第42-44页 |
| 3.2 单层TiO_2薄膜表面粗糙度特性 | 第44-50页 |
| 3.2.1 基底粗糙度 | 第44-46页 |
| 3.2.2 沉积速率 | 第46-47页 |
| 3.2.3 离子束能量 | 第47-48页 |
| 3.2.4 膜层厚度 | 第48-50页 |
| 3.3 单层SiO_2薄膜表面粗糙度特性 | 第50-55页 |
| 3.3.1 沉积速率 | 第50页 |
| 3.3.2 基底粗糙度 | 第50-52页 |
| 3.3.3 膜层厚度 | 第52-54页 |
| 3.3.4 离子束能量 | 第54-55页 |
| 3.4 结论 | 第55-56页 |
| 4 减散射实验探究 | 第56-64页 |
| 4.1 Horos散射测量系统 | 第56-57页 |
| 4.2 TiO_2薄膜减散射实验 | 第57-60页 |
| 4.3 SiO_2薄膜减散射实验 | 第60-63页 |
| 4.4 小结 | 第63-64页 |
| 5 结论及展望 | 第64-66页 |
| 5.1 结论 | 第64-65页 |
| 5.2 展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |