| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 引言 | 第9-11页 |
| 第1章 文献综述 | 第11-30页 |
| 1.1 光催化分解水的基本原理 | 第11-15页 |
| 1.1.1 光催化分解水的反应机理 | 第11-12页 |
| 1.1.2 光催化分解水的具体过程 | 第12-14页 |
| 1.1.3 半导体光电催化分解水 | 第14-15页 |
| 1.2 提高光催化分解水效率的手段 | 第15-22页 |
| 1.2.1 光催化剂的带隙调控 | 第15-17页 |
| 1.2.2 光催化剂的表面敏化 | 第17-18页 |
| 1.2.3 光催化剂的异质结构筑 | 第18-20页 |
| 1.2.4 光催化剂的异相结构筑 | 第20-21页 |
| 1.2.5 光催化剂的肖特基结构筑 | 第21-22页 |
| 1.3 光催化用半导体催化剂 | 第22-28页 |
| 1.3.1 TiO_2光催化剂及研究进展 | 第23-25页 |
| 1.3.2 CdSe纳米材料在光催化中的应用研究 | 第25-27页 |
| 1.3.3 原子层沉积技术在光催化中的应用研究 | 第27-28页 |
| 1.4 文献小结及本论文要开展的工作 | 第28-30页 |
| 第2章 实验方法 | 第30-36页 |
| 2.1 实验药品及仪器设备 | 第30-31页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第31-33页 |
| 2.2.1 碳布基TiO_2纳米线的制备 | 第31-32页 |
| 2.2.2 ALD Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的制备 | 第32页 |
| 2.2.3 CdSe/TiO_2纳米线阵列的制备 | 第32页 |
| 2.2.4 Al_2O_3/CdSe/TiO_2纳米线阵列的制备 | 第32页 |
| 2.2.5 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的制备 | 第32-33页 |
| 2.3 催化剂的表征 | 第33-34页 |
| 2.3.1 X射线衍射（XRD）分析 | 第33页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜（SEM） | 第33页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜（TEM） | 第33页 |
| 2.3.4 紫外可见漫反射（UV-Vis DRS）分析 | 第33页 |
| 2.3.5 电化学性质分析 | 第33-34页 |
| 2.4 催化剂活性评价 | 第34-36页 |
| 2.4.1 光电催化分解水活性评价装置简介 | 第34-35页 |
| 2.4.2 光电催化分解水活性评价过程 | 第35-36页 |
| 第3章 ALD Al_2O_3/TiO_2纳米线的制备及光电催化分解水性能研究 | 第36-54页 |
| 3.1 碳布基底生长TiO_2纳米线的表征 | 第36-39页 |
| 3.1.1 TiO_2纳米线的XRD表征 | 第36-37页 |
| 3.1.2 TiO_2纳米线的SEM表征 | 第37-38页 |
| 3.1.3 TiO_2纳米线的UV-Vis DRS表征 | 第38-39页 |
| 3.2 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的表征 | 第39-45页 |
| 3.2.1 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的XRD表征 | 第39-40页 |
| 3.2.2 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的SEM表征 | 第40-42页 |
| 3.2.3 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的TEM表征 | 第42-43页 |
| 3.2.4 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的EDS表征 | 第43-44页 |
| 3.2.5 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的UV-Vis DRS表征 | 第44-45页 |
| 3.3 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的电化学性质测试 | 第45-49页 |
| 3.3.1 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的光电流表征 | 第45-47页 |
| 3.3.2 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的交流阻抗表征 | 第47-48页 |
| 3.3.3 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的开路电压表征 | 第48-49页 |
| 3.4 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列的光解水制氢活性评价 | 第49-53页 |
| 3.4.1 光电分解水制氢体系评价方法 | 第49页 |
| 3.4.2 TiO_2纳米线阵列光分解水制氢测试结果与讨论 | 第49-51页 |
| 3.4.3 Al_2O_3/TiO_2纳米线阵列光分解水制氢测试结果与讨论 | 第51-53页 |
| 3.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线的制备及光电催化分解水性能研究 | 第54-74页 |
| 4.1 CdSe/TiO_2纳米线阵列的表征 | 第54-57页 |
| 4.1.1 CdSe/TiO_2纳米线阵列的XRD表征 | 第54-55页 |
| 4.1.2 CdSe/TiO_2纳米线阵列的SEM表征 | 第55-57页 |
| 4.2 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线体系的表征 | 第57-62页 |
| 4.2.1 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线体系的XRD表征 | 第57-58页 |
| 4.2.2 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线体系的SEM表征 | 第58-59页 |
| 4.2.3 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线体系的TEM表征 | 第59-61页 |
| 4.2.4 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线EDS表征 | 第61-62页 |
| 4.2.5 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线体系的UV-Vis DRS表征 | 第62页 |
| 4.3 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线体系的电化学性质测试 | 第62-69页 |
| 4.3.1 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线体系的光电流表征 | 第63-66页 |
| 4.3.2 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线体系的交流阻抗表征 | 第66-68页 |
| 4.3.3 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线体系的开路电压表征 | 第68-69页 |
| 4.4 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线体系的光解水制氢活性评价 | 第69-73页 |
| 4.4.1 光电分解水制氢体系评价方法 | 第69-70页 |
| 4.4.2 CdSe/Al_2O_3/TiO_2纳米线体系光电分解水制氢测试结果与讨论 | 第70-73页 |
| 4.5 本章小结 | 第73-74页 |
| 第5章 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
