| 中文摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 负折射的概念 | 第12-13页 |
| 1.3 负折射材料奇异的物理性质 | 第13-17页 |
| 1.3.1 群速度与相速度相反 | 第13-14页 |
| 1.3.2 负折射现象 | 第14-15页 |
| 1.3.3 逆多普勒效应 | 第15-16页 |
| 1.3.4 逆切连科夫效应 | 第16-17页 |
| 1.3.5 负光压效应 | 第17页 |
| 1.4 完美成像理论 | 第17-19页 |
| 第二章 光子晶体概述 | 第19-22页 |
| 2.1 光子晶体的概念 | 第19-20页 |
| 2.2 光子晶体的发展和应用 | 第20-22页 |
| 2.2.1 光子晶体的发展历程 | 第20页 |
| 2.2.2 光子晶体的应用 | 第20-22页 |
| 第三章 光子晶体的理论模拟方法 | 第22-29页 |
| 3.1 平面波展开法(PWEM) | 第22-25页 |
| 3.2 时域有限差分法(FDTD) | 第25-27页 |
| 3.3 其他模拟方法 | 第27-29页 |
| 3.3.1 传输矩阵法(TMM) | 第27页 |
| 3.3.2 散射矩阵法(SMM) | 第27-29页 |
| 第四章 基于负折射效应二维光子晶体平板成像研究 | 第29-41页 |
| 4.1 光子晶体结构设计与色散特性分析 | 第29-32页 |
| 4.2 FDTD数值模拟 | 第32-33页 |
| 4.3 优化光子晶体表面结构 | 第33-37页 |
| 4.3.1 参数R对成像质量的影响 | 第33-34页 |
| 4.3.2 改变不同行介质柱对成像质量的影响 | 第34-37页 |
| 4.4 二维光子晶体平板透镜成像稳定性研究 | 第37-40页 |
| 4.4.1 光源位置移动时二维光子晶体平板的成像稳定性 | 第37-39页 |
| 4.4.2 光源频率波动时成像稳定性研究 | 第39-40页 |
| 4.5 结论 | 第40-41页 |
| 第五章 总结 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-46页 |
| 在读期间公开发表的论文和参与科研项目及取得成果 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47页 |