| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 课题来源 | 第11页 |
| 1.2 课题的研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.3 国内外抛光技术研究现状 | 第12-17页 |
| 1.3.1 磁流变抛光 | 第12-13页 |
| 1.3.2 磨料射流抛光 | 第13-14页 |
| 1.3.3 离子束抛光 | 第14-15页 |
| 1.3.4 气囊抛光 | 第15-16页 |
| 1.3.5 计算机控制小磨头抛光 | 第16-17页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 复杂曲面加工余量确定 | 第19-31页 |
| 2.1 光学三反镜自由曲面余量模型建立 | 第19-21页 |
| 2.2 加工余量仿真计算与比较 | 第21-27页 |
| 2.2.1 基于UG软件的加工余量计算 | 第21-22页 |
| 2.2.2 基于MATLAB软件的加工余量计算 | 第22-26页 |
| 2.2.3 蔡司专业软件加工余量计算 | 第26-27页 |
| 2.3 不同加工轨迹间距对加工余量的影响 | 第27-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-31页 |
| 第3章 复杂曲面驻留时间计算 | 第31-43页 |
| 3.1 抛光机理及其Preston假设 | 第31-32页 |
| 3.2 球形抛光工具头材料去除函数建模 | 第32-36页 |
| 3.2.1 球形抛光工具头接触区域确定 | 第32-33页 |
| 3.2.2 球形抛光工具头去除轮廓函数确定 | 第33-36页 |
| 3.3 计算机控制抛光驻留时间计算 | 第36-42页 |
| 3.3.1 驻留时间理论分析 | 第36-38页 |
| 3.3.2 驻留时间计算 | 第38-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 球形工具头材料去除区域修正分析 | 第43-53页 |
| 4.1 球形抛光工具头材料去除区域确定 | 第43-44页 |
| 4.2 材料去除区域验证分析 | 第44-50页 |
| 4.2.1 圆球与平面接触模型建立 | 第45-47页 |
| 4.2.2 圆球与圆柱形凹面接触模型建立 | 第47-48页 |
| 4.2.3 圆球与圆柱接触模型建立 | 第48-50页 |
| 4.3 轨迹点材料去除区域大小分析及修正系数确定 | 第50-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第5章 回转对称非球面同心圆轨迹规划优化研究 | 第53-73页 |
| 5.1 回转对称非球面上普通同心圆轨迹规划分析 | 第53-54页 |
| 5.2 同心圆轨迹间材料去除区域变化情况的量化分析 | 第54-60页 |
| 5.2.1 修正重叠率定义 | 第54-55页 |
| 5.2.2 同心圆轨迹间行距大小对去除区域重叠率的影响 | 第55-58页 |
| 5.2.3 去除区域大小对轨迹间去除区域重叠率的影响 | 第58-60页 |
| 5.3 回转对称非球面等重叠率同心圆轨迹规划仿真分析 | 第60-64页 |
| 5.3.1 变行距同心圆轨迹规划 | 第60-62页 |
| 5.3.2 等重叠率同心圆轨迹规划仿真分析 | 第62-64页 |
| 5.4 回转对称非球面定量等重叠率同心圆轨迹规划分析 | 第64-67页 |
| 5.5 影响去除区域重叠率变化因素分析 | 第67-71页 |
| 5.5.1 工具头材料属性对相邻轨迹间重叠率的影响 | 第68-70页 |
| 5.5.2 工件材料属性对相邻轨迹间重叠率的影响 | 第70-71页 |
| 5.6 本章小结 | 第71-73页 |
| 第6章 结论与展望 | 第73-75页 |
| 6.1 全文总结 | 第73页 |
| 6.2 研究展望 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 攻读硕士期间发表学术论文情况 | 第81-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
