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65纳米CMOS工艺SRAM灵敏放大器时序波动特性研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第1章 绪论第8-14页
    1.1 研究背景和意义第8-10页
    1.2 国内外研究现状第10-12页
    1.3 论文主要研究工作第12-13页
    1.4 论文整体组织结构第13-14页
第2章 SRAM时序控制电路技术第14-21页
    2.1 SRAM单元基本工作原理第14-15页
        2.1.1 读操作第14-15页
        2.1.2 写操作第15页
        2.1.3 数据保持第15页
    2.2 SRAM关键路径电路分析第15-17页
    2.3 延时链延迟技术第17页
    2.4 传统复制位线延迟技术第17-18页
    2.5 传统复制位线延时技术与反相器链延时技术的比较第18-19页
    2.6 本章小结第19-21页
第3章 现有的SRAM时序控制电路技术第21-33页
    3.1 多级复制位线延迟技术第21-24页
        3.1.1 多级复制位线技术的电路结构及工作原理分析第21-23页
        3.1.2 多级复制位线技术优势及存在的问题第23页
        3.1.3 多级复制位线技术与传统复制位线技术仿真对比第23-24页
    3.2 双端复制位线技术第24-27页
        3.2.1 双端复制位线技术的电路结构及工作原理分析第24-25页
        3.2.2 双端复制位线技术优势及存在的问题第25-26页
        3.2.3 双端复制位线技术与传统复制位线技术仿真对比第26-27页
    3.3 数字复制位线技术第27-29页
        3.3.1 数字复制位线技术的电路结构及工作原理分析第27-28页
        3.3.2 数字复制位线技术的电路存在的问题第28-29页
    3.4 多级并行复制位线延时累加技术第29-32页
        3.4.1 多级并行复制位线延时累加技术的电路结构与工作原理分析第29-31页
        3.4.2 多级并行复制位线延时累加技术电路存在的问题第31-32页
    3.5 本章小结第32-33页
第4章 基于双边的改进型复制位线技术第33-49页
    4.1 多级双端复制位线技术原理分析第33-35页
        4.1.1 多级双端复制位线技术电路结构第33-34页
        4.1.2 多级双端复制位线技术工作原理第34-35页
    4.2 新型双端复制位线技术及其改进结构的原理分析第35-39页
        4.2.1 新型双端复制位线技术电路结构第35-36页
        4.2.2 新型双端复制位线技术工作原理第36-37页
        4.2.3 新型双端复制位线技术的改进结构第37-38页
        4.2.4 新型双端复制位线技术改进结构的工作原理第38-39页
    4.3 仿真结果对比分析第39-48页
        4.3.1 蒙特卡洛方法第39-40页
        4.3.2 多级双端复制位线仿真结果第40-41页
        4.3.3 新型双端复制位线及其改进结构仿真结果第41-48页
    4.4 本章小结第48-49页
第5章 总结与展望第49-51页
    5.1 总结第49页
    5.2 展望第49-51页
参考文献第51-56页
图表目录第56-58页
致谢第58-59页
攻读学位期间取得的学术成果第59页

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