| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·钙钛矿锰氧化物的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·锰氧化物的电子结构及电输运特性 | 第11-13页 |
| ·锰氧化物的电荷有序现象 | 第13-16页 |
| ·磁致电阻效应研究进展 | 第16-17页 |
| ·研究思路与研究内容 | 第17-20页 |
| 第2章 样品的制备与结构表征 | 第20-26页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·块体制备方法 | 第20-21页 |
| ·薄膜制备方法 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射法镀膜 | 第21-22页 |
| ·溅射机理及过程 | 第22-23页 |
| ·实验用磁控溅射设备 | 第23页 |
| ·样品的测试与分析方法 | 第23-25页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第23-24页 |
| ·样品结构分析 | 第24页 |
| ·样品的磁学性能测量 | 第24页 |
| ·样品的电学性能测量 | 第24-25页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 Pr_(1-x)Ca_xMnO_3薄膜制备工艺研究 | 第26-42页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·Pr_(1-x)Ca_xMnO_3靶材的制备 | 第26-28页 |
| ·Pr_(1-x)Ca_xMnO_3薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·工艺参数对Pr_(1-x)Ca_xMnO_3薄膜结构和沉积速率的影响 | 第29-36页 |
| ·溅射气压对PCMO薄膜结构及沉积速率的影响 | 第29-32页 |
| ·衬底温度对PCMO薄膜结构及沉积速率的影响 | 第32-34页 |
| ·溅射功率对PCMO薄膜结构及沉积速率的影响 | 第34-36页 |
| ·Ca掺杂及膜厚对Pr_(1-x)Ca_xMnO_3薄膜的影响 | 第36-40页 |
| ·Ca掺杂对PCMO薄膜结构的影响 | 第36-37页 |
| ·膜厚对PCMO薄膜结构及性能的影响 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 Pr_(1-x)Ca_xMnO_3薄膜的结构及磁、电学性能研究 | 第42-56页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·不同取向对Pr_(0.6)Ca_(0.4)MnO_3薄膜磁、电学性能影响 | 第42-46页 |
| ·不同取向Pr_(0.6)Ca_(0.4)MnO_3薄膜的制备 | 第43-44页 |
| ·不同取向Pr_(0.6)Ca_(0.4)MnO_3薄膜电学性能分析 | 第44-46页 |
| ·膜厚对Pr_(0.6)Ca_(0.4)MnO_3薄膜磁、电学性能影响 | 第46-52页 |
| ·不同膜厚Pr_(0.6)Ca_(0.4)MnO_3薄膜样品的制备 | 第47-48页 |
| ·不同膜厚Pr_(0.6)Ca_(0.4)MnO_3薄膜电学性能分析 | 第48-50页 |
| ·不同膜厚Pr_(0.6)Ca_(0.4)MnO_3薄膜磁学性能研究 | 第50-52页 |
| ·Pr_(0.6)Ca_(0.4)Mn_O3薄膜导电机制研究 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-56页 |
| 第5章 Pr_(1-x)Ca_xMn_(1-x)Ru_xO_3块体材料性能研究 | 第56-66页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·Pr_(0.5)Ca_(0.5)Mn_(1-x)Ru_xO_3块体的制备 | 第56-61页 |
| ·结构分析 | 第56-59页 |
| ·拉曼分析 | 第59-61页 |
| ·Pr_(0.5)Ca_(0.5)Mn_(1-x)Ru_xO_3块体电学性能研究 | 第61-63页 |
| ·电学性能分析 | 第61-62页 |
| ·CMR效应 | 第62-63页 |
| ·Pr_(0.5)Ca_(0.5)Mn_(1-x)Ru_xO_3块体磁学性能研究 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
