中文摘要 | 第3-4页 |
英文摘要 | 第4-5页 |
1 绪论 | 第8-18页 |
1.1 课题背景 | 第8页 |
1.2 电镦制坯模拟的国内外研究现状 | 第8-11页 |
1.2.1 电镦工艺的基本原理 | 第8-9页 |
1.2.2 电镦的工艺特点和研究现状 | 第9页 |
1.2.3 电镦工艺数值模拟研究概况 | 第9-11页 |
1.3 微观组织演变的方法与研究现状 | 第11-15页 |
1.3.1 蒙特卡罗法 | 第12页 |
1.3.2 相场法 | 第12-13页 |
1.3.3 元胞自动机法 | 第13-15页 |
1.4 课题研究的意义及主要内容 | 第15-18页 |
1.4.1 课题研究的意义 | 第15-16页 |
1.4.2 课题研究的主要内容 | 第16-18页 |
2 实验材料及方法 | 第18-24页 |
2.1 引言 | 第18页 |
2.2 实验材料 | 第18页 |
2.3 等温压缩实验方法 | 第18-22页 |
2.3.1 压缩试样制备 | 第18-19页 |
2.3.2 实验设备 | 第19页 |
2.3.3 实验工艺流程 | 第19-20页 |
2.3.4 实验有效性判断 | 第20-21页 |
2.3.5 实验结果及分析 | 第21-22页 |
2.4 本章小结 | 第22-24页 |
3 元胞自动机法原理概述 | 第24-32页 |
3.1 引言 | 第24页 |
3.2 CA的发展过程 | 第24-26页 |
3.3 CA的定义及基本特征 | 第26-27页 |
3.4 元胞自动机模拟系统的基本组成 | 第27-31页 |
3.5 本章小结 | 第31-32页 |
4 SNCRW耐热合金晶粒演变元胞自动机模型 | 第32-58页 |
4.1 引言 | 第32-33页 |
4.2 元胞自动机模型的建立 | 第33-37页 |
4.2.1 位错密度模型 | 第34-36页 |
4.2.2 动态再结晶形核和长大模型 | 第36-37页 |
4.3 动态再结晶体积分数模型和再结晶晶粒尺寸模型 | 第37-50页 |
4.4 元胞自动机模拟结果与试验结果对比 | 第50-56页 |
4.4.1 元胞自动机模拟动态再结晶过程 | 第50-52页 |
4.4.2 模拟的晶粒尺寸和实际晶粒尺寸的比较 | 第52-56页 |
4.5 本章小结 | 第56-58页 |
5 SNCRW电镦过程中晶粒尺寸CA模拟 | 第58-72页 |
5.1 电镦过程宏微观多尺度有限元分析模型 | 第58-62页 |
5.1.1 电镦有限元模型的建立 | 第58-59页 |
5.1.2 材料属性的设置 | 第59-60页 |
5.1.3 初始及边界条件的定义 | 第60-61页 |
5.1.4 电镦工艺参数设置 | 第61-62页 |
5.2 电镦有限元模拟结果分析 | 第62-71页 |
5.2.1 电镦变形过程分析 | 第62-64页 |
5.2.2 晶粒尺寸模拟结果与分析 | 第64-71页 |
5.3 本章小结 | 第71-72页 |
6 结论与展望 | 第72-74页 |
6.1 结论 | 第72页 |
6.2 展望 | 第72-74页 |
致谢 | 第74-76页 |
参考文献 | 第76-82页 |
附录 | 第82页 |
A作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第82页 |
B作者在攻读学位期间参与科研项目及成果目录 | 第82页 |