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石墨烯插层的介孔石墨相氮化碳(mpg-C3N4/rGO)光催化剂的制备和性能研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-6页
第一章 绪论第9-25页
    1.1 引言第9-10页
    1.2 半导体光催化技术简介第10-13页
        1.2.1 半导体光催化技术的发展背景第10页
        1.2.2 半导体光催化反应的机理第10-11页
        1.2.3 光催化性能的影响因素第11-13页
    1.3 光催化技术的应用第13-15页
        1.3.1 大气及室内污染物的光催化氧化第13页
        1.3.2 催化制氢第13-14页
        1.3.3 污水处理第14页
        1.3.4 土壤修复第14-15页
        1.3.5 杀菌消毒第15页
    1.4 石墨相氮化碳简介第15-22页
        1.4.1 石墨相氮化碳的结构及性质第15-16页
        1.4.2 石墨相氮化碳的制备方法第16-18页
        1.4.3 石墨相氮化碳的研究进展第18-22页
    1.5 选题背景及意义第22-23页
    1.6 课题研究内容和研究方法第23-25页
第二章 mpg-C_3N_4的制备及光催化性能研究第25-41页
    2.1 引言第25页
    2.2 实验部分第25-29页
        2.2.1 实验材料及药品第25-26页
        2.2.2 实验仪器第26页
        2.2.3 催化剂的制备第26-27页
        2.2.4 催化剂的表征第27-28页
        2.2.5 光催化活性的测定第28-29页
    2.3 结果与讨论第29-39页
        2.3.1 XRD分析第29-31页
        2.3.2 TEM分析第31-32页
        2.3.3 TGA曲线分析第32页
        2.3.4 FT-IR图谱分析第32-33页
        2.3.5 BET结果分析第33-35页
        2.3.6 UV-vis DRS分析第35-36页
        2.3.7 光催化活性分析第36-38页
        2.3.8 催化机理分析第38-39页
    2.4 本章小结第39-41页
第三章 mpg-C_3N_4/rGO的制备和光催化性能研究第41-55页
    3.1 引言第41-43页
    3.2 实验部分第43-45页
        3.2.1 实验材料及药品第43页
        3.2.2 实验仪器第43-44页
        3.2.3 催化剂的制备第44页
        3.2.4 催化剂的表征第44-45页
        3.2.5 光催化活性的测定第45页
    3.3 结果与讨论第45-53页
        3.3.1 XRD分析第45-46页
        3.3.2 FT-IR分析第46-47页
        3.3.3 TEM分析第47-48页
        3.3.4 BET分析第48-49页
        3.3.5 TGA分析第49-50页
        3.3.6 UV-vis DRS分析第50-51页
        3.3.7 光催化活性分析第51-52页
        3.3.8 光催化机理分析第52-53页
    3.4 本章小结第53-55页
第四章 结论和展望第55-57页
    4.1 结论第55-56页
    4.2 展望第56-57页
参考文献第57-62页
攻读硕士学位期间的研究成果第62-63页
致谢第63页

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