摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-25页 |
1.1 引言 | 第9-10页 |
1.2 半导体光催化技术简介 | 第10-13页 |
1.2.1 半导体光催化技术的发展背景 | 第10页 |
1.2.2 半导体光催化反应的机理 | 第10-11页 |
1.2.3 光催化性能的影响因素 | 第11-13页 |
1.3 光催化技术的应用 | 第13-15页 |
1.3.1 大气及室内污染物的光催化氧化 | 第13页 |
1.3.2 催化制氢 | 第13-14页 |
1.3.3 污水处理 | 第14页 |
1.3.4 土壤修复 | 第14-15页 |
1.3.5 杀菌消毒 | 第15页 |
1.4 石墨相氮化碳简介 | 第15-22页 |
1.4.1 石墨相氮化碳的结构及性质 | 第15-16页 |
1.4.2 石墨相氮化碳的制备方法 | 第16-18页 |
1.4.3 石墨相氮化碳的研究进展 | 第18-22页 |
1.5 选题背景及意义 | 第22-23页 |
1.6 课题研究内容和研究方法 | 第23-25页 |
第二章 mpg-C_3N_4的制备及光催化性能研究 | 第25-41页 |
2.1 引言 | 第25页 |
2.2 实验部分 | 第25-29页 |
2.2.1 实验材料及药品 | 第25-26页 |
2.2.2 实验仪器 | 第26页 |
2.2.3 催化剂的制备 | 第26-27页 |
2.2.4 催化剂的表征 | 第27-28页 |
2.2.5 光催化活性的测定 | 第28-29页 |
2.3 结果与讨论 | 第29-39页 |
2.3.1 XRD分析 | 第29-31页 |
2.3.2 TEM分析 | 第31-32页 |
2.3.3 TGA曲线分析 | 第32页 |
2.3.4 FT-IR图谱分析 | 第32-33页 |
2.3.5 BET结果分析 | 第33-35页 |
2.3.6 UV-vis DRS分析 | 第35-36页 |
2.3.7 光催化活性分析 | 第36-38页 |
2.3.8 催化机理分析 | 第38-39页 |
2.4 本章小结 | 第39-41页 |
第三章 mpg-C_3N_4/rGO的制备和光催化性能研究 | 第41-55页 |
3.1 引言 | 第41-43页 |
3.2 实验部分 | 第43-45页 |
3.2.1 实验材料及药品 | 第43页 |
3.2.2 实验仪器 | 第43-44页 |
3.2.3 催化剂的制备 | 第44页 |
3.2.4 催化剂的表征 | 第44-45页 |
3.2.5 光催化活性的测定 | 第45页 |
3.3 结果与讨论 | 第45-53页 |
3.3.1 XRD分析 | 第45-46页 |
3.3.2 FT-IR分析 | 第46-47页 |
3.3.3 TEM分析 | 第47-48页 |
3.3.4 BET分析 | 第48-49页 |
3.3.5 TGA分析 | 第49-50页 |
3.3.6 UV-vis DRS分析 | 第50-51页 |
3.3.7 光催化活性分析 | 第51-52页 |
3.3.8 光催化机理分析 | 第52-53页 |
3.4 本章小结 | 第53-55页 |
第四章 结论和展望 | 第55-57页 |
4.1 结论 | 第55-56页 |
4.2 展望 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-62页 |
攻读硕士学位期间的研究成果 | 第62-63页 |
致谢 | 第63页 |