| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| 1.1 概述 | 第9页 |
| 1.2 金刚石结构 | 第9页 |
| 1.3 金刚石的性质 | 第9-11页 |
| 1.3.1 机械性能 | 第9-10页 |
| 1.3.2 热学性质 | 第10页 |
| 1.3.3 光学性质 | 第10页 |
| 1.3.4 声学性质 | 第10-11页 |
| 1.3.5 电学性质 | 第11页 |
| 1.3.6 化学性质 | 第11页 |
| 1.4 金刚石分类及研究历史 | 第11-14页 |
| 1.5 金刚石的制备方法 | 第14-17页 |
| 1.5.1 热丝直流等离子体法(HFCVD) | 第14-15页 |
| 1.5.2 微波等离子体法(MPCVD) | 第15-16页 |
| 1.5.3 直流电弧等离子喷射 CVD 法(DAPCVD) | 第16-17页 |
| 1.6 CVD 单晶金刚石的生长条件 | 第17-23页 |
| 1.6.1 功率密度 | 第18页 |
| 1.6.2 籽晶衬底 | 第18-19页 |
| 1.6.3 反应温度 | 第19页 |
| 1.6.4 甲烷浓度（CH4） | 第19-20页 |
| 1.6.5 添加气体 | 第20-23页 |
| 1.7 选题及主要研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 实验设备及表征 | 第24-26页 |
| 2.1 本文使用的实验设备 | 第24页 |
| 2.2 实验使用的测试手段 | 第24-26页 |
| 2.2.1 金相显微镜 | 第24-25页 |
| 2.2.2 激光拉曼光谱（Raman） | 第25页 |
| 2.2.3 光致发光（PL） | 第25页 |
| 2.2.4 扫描电子显微镜（SEM） | 第25页 |
| 2.2.5 光发射谱（OES） | 第25-26页 |
| 第三章 甲烷对单晶生长的影响 | 第26-36页 |
| 3.1 实验步骤 | 第26页 |
| 3.2 实验结果及分析 | 第26-34页 |
| 3.2.1 生长速率 | 第26-27页 |
| 3.2.2 OES | 第27-29页 |
| 3.2.3 拉曼和 PL | 第29-31页 |
| 3.2.4 金刚石的表面形貌 | 第31-34页 |
| 3.3 本章结论 | 第34-36页 |
| 第四章 金刚石刻蚀坑的研究 | 第36-46页 |
| 4.1 引言 | 第36-37页 |
| 4.2 实验方法及表征手段 | 第37页 |
| 4.3 刻蚀结果比较 | 第37-45页 |
| 4.3.1 刻蚀前后对比 | 第38-39页 |
| 4.3.2 CVD 单晶金刚石与 HTHP 单晶金刚石刻蚀对比 | 第39-41页 |
| 4.3.3 有氧刻蚀和无氧刻蚀的对比 | 第41-42页 |
| 4.3.4 延长刻蚀时间对刻蚀的影响 | 第42-45页 |
| 4.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第五章 全文总结 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-56页 |
| 作者简介 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57页 |